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應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,能源,電子/電池,電氣,綜合

日本toyokokagaku高靈敏度緊湊質(zhì)譜儀分析儀 ASTON Impact 特點(diǎn)介紹

“ASTON Impact"是一款適用于氣體分析的過程氣體監(jiān)測的高靈敏度質(zhì)譜儀。

這是一款追求性價(jià)比和易用性的電子電離離子源型號。

它節(jié)省空間并允許您監(jiān)測大氣壓區(qū)域的氣體。

雖然體積小，但質(zhì)量范圍擴(kuò)展至m/z285，作為過程氣體監(jiān)測用質(zhì)譜儀，成功實(shí)現(xiàn)了超越其他公司的高靈敏度測量。

它采用節(jié)省空間的設(shè)計(jì)，包括配備電子電離源和二次電子倍增器的小型四極傳感器以及泵。

日本toyokokagaku高靈敏度緊湊質(zhì)譜儀分析儀 ASTON Impact 規(guī)格參數(shù)

替代使用氦 (He) 載體的分析儀，例如氣相色譜儀

FT-IR 分析儀的替代品

用于連續(xù)分析廢氣以回收二氧化碳 (CO 2 )

測量廢氣中氫氣（H 2 ）和其他氣體的濃度

半導(dǎo)體設(shè)備的氣體測量

CVD 清洗終點(diǎn)

蝕刻端點(diǎn)

薄膜沉積工藝條件測量

用于干泵維護(hù)和安全保證的氣體測量

發(fā)酵過程中產(chǎn)生的氣體（乙醇等）的監(jiān)測和測量

NMP監(jiān)測測量

冷凍干燥過程中的殘余水分管理測量

廢氣管理測量

檢測各種氣體泄漏的測量

1.首先

化學(xué)氣相沉積（CVD）廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造工藝中。它包括許多形成氧化膜和金屬膜的步驟。

在 CVD 中，固體沉積物在腔室內(nèi)壁上的積累以及由此產(chǎn)生的顆粒對工藝產(chǎn)生重大影響。

因此，根據(jù)成膜頻率需要進(jìn)行腔室清潔。

通常，腔室清潔是通過考慮終點(diǎn)的經(jīng)過時(shí)間來控制的。

2.測試方法

1. 用不銹鋼管將閥門和 ASTON Impact 連接到 CVD 設(shè)備。

2. 開始清潔過程并開始測量 ASTON Impact。

3. 監(jiān)測反應(yīng)產(chǎn)物和清潔氣體的趨勢。

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