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脈沖激光沉積鍍膜機PLD

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)代理商

所  在  地深圳市

更新時間:2024-10-22 16:48:52瀏覽次數(shù):186次

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v產(chǎn)品概述:系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成v設(shè)備用途:是一種利用激光高能量脈沖輻射沖擊固體靶時,激光與物質(zhì)之間的所有物理相互作用,亦包括等離子羽狀物的形成,其后已熔化的物質(zhì)通過等離子羽狀物到達已加熱的基片表面的轉(zhuǎn)移,及最后物質(zhì)沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段

v 產(chǎn)品概述:系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成

v 設(shè)備用途:是一種利用激光高能量脈沖輻射沖擊固體靶時,激光與物質(zhì)之間的所有物理相互作用,亦包括等離子羽狀物的形成,其后已熔化的物質(zhì)通過等離子羽狀物到達已加熱的基片表面的轉(zhuǎn)移,及最后物質(zhì)沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段。PLD非常適合生長多元氧化物的多層膜和異質(zhì)膜,輕松實現(xiàn)對化學成分較復雜的復合物材料進行材料生長。在生長過程中還可以實現(xiàn)引入活性或惰性及混合氣等工藝氣體,以提高薄膜生長品質(zhì)

v 基片尺寸:8inch(可向下兼容)

v 加熱溫度:1000   加熱方式:輻射加熱

v 靶材:3*4"

v 真空度:5*10-7Pa

v 氣路系統(tǒng):氧氣、氮氣、氬氣

v 模塊:PLD+進樣室

v 激光窗口:配有閘板閥

v 光路系統(tǒng):激光掃描功能


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