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當前位置:研啟科學儀器(東莞)有限公司>> 脈沖激光沉積鍍膜機PLD
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產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地深圳市
更新時間:2024-10-22 16:48:52瀏覽次數(shù):186次
聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)v 產(chǎn)品概述:系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成
v 設(shè)備用途:是一種利用激光高能量脈沖輻射沖擊固體靶時,激光與物質(zhì)之間的所有物理相互作用,亦包括等離子羽狀物的形成,其后已熔化的物質(zhì)通過等離子羽狀物到達已加熱的基片表面的轉(zhuǎn)移,及最后物質(zhì)沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段。PLD非常適合生長多元氧化物的多層膜和異質(zhì)膜,輕松實現(xiàn)對化學成分較復雜的復合物材料進行材料生長。在生長過程中還可以實現(xiàn)引入活性或惰性及混合氣等工藝氣體,以提高薄膜生長品質(zhì)
v 基片尺寸:8inch(可向下兼容)
v 加熱溫度:1000℃ 加熱方式:輻射加熱
v 靶材:3*4"
v 真空度:5*10-7Pa
v 氣路系統(tǒng):氧氣、氮氣、氬氣
v 模塊:PLD+進樣室
v 激光窗口:配有閘板閥
v 光路系統(tǒng):激光掃描功能
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