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HyperJet2日本武藏MUSASHI微量點(diǎn)膠機(jī)非接觸式納米級(jí)
| 參考價(jià): | 面議 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)- HyperJet2 產(chǎn)品型號(hào)
- MUSASHI/武藏 品牌
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- 成都市 所在地
訪(fǎng)問(wèn)次數(shù)：87更新時(shí)間：2025-02-17 09:34:59
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥,電氣 |
|---|
■安裝在米粒上的 0201 芯片（約 5 毫米）*
■實(shí)現(xiàn)了
Ag 漿狀涂層直徑 Φ110 μm
。* 此表達(dá)式僅用于合理解釋涂層直徑的大小。 這并不是說(shuō)芯片組件實(shí)際上安裝在一粒米上
產(chǎn)品介紹
日本武藏MUSASHI微量點(diǎn)膠機(jī)非接觸式納米級(jí)-成都藤田科技提供
產(chǎn)品技術(shù)描述（核心賣(mài)點(diǎn)）
1. 超微量非接觸噴射技術(shù)（HyperJet™）
突破傳統(tǒng)接觸式限制：通過(guò)高頻壓電驅(qū)動(dòng)實(shí)現(xiàn)0.1nL級(jí)超微量點(diǎn)膠，無(wú)需針頭接觸基板，避免材料反粘、針頭磨損及基板損傷問(wèn)題。
精密控制能力：支持0.05mm~5mm噴射高度動(dòng)態(tài)調(diào)整，適應(yīng)曲面、異形結(jié)構(gòu)及微型元件（如芯片級(jí)封裝、MEMS傳感器）的高難度點(diǎn)膠場(chǎng)景。
2. 智能自適應(yīng)點(diǎn)膠系統(tǒng)
AI工藝參數(shù)優(yōu)化：內(nèi)置材料黏度自適應(yīng)算法，實(shí)時(shí)匹配氣壓、頻率與噴射量，確保復(fù)雜流體（導(dǎo)電膠、UV膠、生物醫(yī)藥涂層）的穩(wěn)定一致性。
全閉環(huán)質(zhì)量監(jiān)控：集成高分辨率視覺(jué)系統(tǒng)（5μm級(jí)定位精度）+ 膠量反饋傳感器，實(shí)現(xiàn)過(guò)程100在線(xiàn)檢測(cè)，良品率提升至99.8%。
3. 多場(chǎng)景模塊化擴(kuò)展設(shè)計(jì)
一機(jī)多用架構(gòu)：可選配多軸聯(lián)動(dòng)模塊、真空防飛濺組件及溫控膠閥（-40℃~200℃），覆蓋3C電子、半導(dǎo)體封裝、醫(yī)療器械等超精密領(lǐng)域。
工業(yè)互聯(lián)兼容性：支持SECS/GEM協(xié)議及IoT遠(yuǎn)程運(yùn)維，無(wú)縫接入智能工廠(chǎng)生產(chǎn)線(xiàn)，降低綜合運(yùn)維成本30%以上。
4. 環(huán)保節(jié)能技術(shù)升級(jí)
材料浪費(fèi)減少90%：非接觸式噴射杜絕傳統(tǒng)針頭滴漏，搭配膠路自清潔系統(tǒng)，年耗材成本降低超50%。
低能耗運(yùn)行：功耗＜200W，噪音＜65dB，滿(mǎn)足無(wú)塵車(chē)間及實(shí)驗(yàn)室嚴(yán)苛環(huán)境要求。
差異化亮點(diǎn)提煉
性：支持0.1nL級(jí)點(diǎn)膠量+5μm定位精度的非接觸設(shè)備，微電子封裝領(lǐng)域空白。
技術(shù)壁壘：MUSASHI獨(dú)立HyperJet™壓電噴射技術(shù)，攻克高黏度流體（≥100,000cps）穩(wěn)定噴射難題。
投資回報(bào)：通過(guò)良率提升與耗材節(jié)省，客戶(hù)6-12個(gè)月即可收回設(shè)備成本。
日本武藏MUSASHI微量點(diǎn)膠機(jī)非接觸式納米級(jí)-成都藤田科技提供
