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成都藤田科技有限公司
中級會員·1年日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀
- 發(fā)布時間2025-02-24
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視頻簡介
日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀-成都藤田科技提供● 非接觸、非破壞式，量測頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內(nèi)● 初學者也能輕松解析建模的初學者解析模式● 高精度、高再現(xiàn)性量測紫外到近紅外波段內(nèi)的反射率，可分析多層薄膜厚度、光學常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）● 單點對焦加量測在1秒內(nèi)完成● 顯微分光下廣范圍的光學系統(tǒng)（紫外 ~ 近紅外）● 獨立測試頭對應各種inline定制化需求●...
視頻簡介
日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀-成都藤田科技提供
● 非接觸、非破壞式，量測頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內(nèi)
● 初學者也能輕松解析建模的初學者解析模式
● 高精度、高再現(xiàn)性量測紫外到近紅外波段內(nèi)的反射率，可分析多層薄膜厚度、光學常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）
● 單點對焦加量測在1秒內(nèi)完成
● 顯微分光下廣范圍的光學系統(tǒng)（紫外 ~ 近紅外）
● 獨立測試頭對應各種inline定制化需求
● 最小對應spot約3μm
● 可針對超薄膜解析nk
量測項目
● 反射率分析
● 多層膜解析（50層）
● 光學常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）
膜或者玻璃等透明基板樣品，受基板內(nèi)部反射的影響，無法正確測量。OPTM系列使用物鏡，可以物理去除內(nèi)部反射，即使是透明基板也可以實現(xiàn)高精度測量。此外，對具有光學異向性的膜或SiC等樣品，也可不受其影響，單獨測量上面的膜。
應用范圍
● 半導體、復合半導體：硅半導體、碳化硅半導體、砷化鎵半導體、光刻膠、介電常數(shù)材料
● FPD：LCD、TFT、OLED（有機EL）
● 資料儲存：DVD、磁頭薄膜、磁性材料
● 光學材料：濾光片、抗反射膜
● 平面顯示器：液晶顯示器、薄膜晶體管、OLED
● 薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等
● 其它：建筑用材料、膠水、DLC等
規(guī)格式樣
（自動XY平臺型）
OPTM-A1 | OPTM-A2 | OPTM-A3 | |
|---|---|---|---|
波長范圍 | 230 ~ 800 nm | 360 ~ 1100 nm | 900 ~ 1600 nm |
膜厚范圍 | 1nm ~ 35μm | 7nm ~ 49μm | 16nm ~ 92μm |
測定時間 | 1秒 / 1點以內(nèi) | ||
光徑大小 | 10μm (最小約3μm) | ||
感光元件 | CCD | InGaAs | |
光源規(guī)格 | 氘燈 鹵素燈 | 鹵素燈 | |
尺寸 | 556(W) X 566(D) X 618(H) mm (自動XY平臺型的主體部分) | ||
重量 | 66kg（自動XY平臺型的主體部分） | ||
量測案例
半導體行業(yè) - SiO2、SiN膜厚測定案例
FPD行業(yè) - 彩色光阻膜厚測定
FPD行業(yè) – 用傾斜模式解析ITO構(gòu)造
日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀-成都藤田科技提供
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