現(xiàn)貨庫存：日本USHIO牛尾分割投影光刻機(jī)UX-5782SC

現(xiàn)貨庫存：日本USHIO牛尾分割投影光刻機(jī)UX-5782SC

高分辨率：USHIO 牛尾的投影式光刻機(jī)通常采用專業(yè)開發(fā)的高輸出燈以及設(shè)計(jì)的投影鏡片，可實(shí)現(xiàn)高效率的高解析度曝光，分割投影技術(shù)可能進(jìn)一步優(yōu)化了分辨率，以滿足更精細(xì)的光刻需求。

大口徑投影鏡片：可能配備大口徑投影鏡片，像其常規(guī)投影式光刻機(jī)一樣，有助于大幅提高良品率，并達(dá)到高產(chǎn)能。

深焦點(diǎn)深度：焦點(diǎn)深度較深，厚膜光阻與變形膠卷均能適用，也可對非平面晶圓進(jìn)行適當(dāng)曝光，在分割投影時(shí)也能保證各部分曝光的準(zhǔn)確性和一致性。

自動對焦與對準(zhǔn)：具備自動對焦機(jī)能和高精度的對準(zhǔn)系統(tǒng)，如采用 TTL 非曝光波長對準(zhǔn)系統(tǒng)，可通過圖像處理檢測并固定掩模和工件的對準(zhǔn)標(biāo)記，即使是整體涂鉻的小掩模也能輕易識別工作記號，還能自動檢測基板伸縮導(dǎo)致的圖案變化并調(diào)整投影倍率，確保分割投影時(shí)圖案的精確對準(zhǔn)和拼接。

適用多種基板：可適用于多種類型的基板，如玻璃基板、陶瓷基板、印刷電路板等，以及寬幅及薄型膠卷，分割投影技術(shù)不會對基板的適用性造成限制，反而可能增強(qiáng)對不同形狀和尺寸基板的處理能力。

高均勻性照明：照明光學(xué)系統(tǒng)能有效集中光源發(fā)出的光，以高度均勻、高平行的方式照射掩模，通過在鏡面上實(shí)施特殊涂裝，可選擇曝光波長并阻隔熱線，保證分割投影區(qū)域內(nèi)的照明均勻性，提高光刻圖案的質(zhì)量。

掩模損傷小：投影曝光方式無需掩模與工件接觸，可避免掩模損傷，在分割投影過程中，同樣能保護(hù)掩模，減少因掩模損壞導(dǎo)致的光刻誤差和成本增加。

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