半導(dǎo)體產(chǎn)能不斷擴(kuò)張，配套設(shè)備需求提升加速
隨著電子信息產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，中國半導(dǎo)體行業(yè)市場規(guī)模也從2017年的1315億美元增長至2022年的1820億美元。基于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)國產(chǎn)化進(jìn)程不斷加快，下游晶圓廠也在不斷擴(kuò)張，中國芯片制造商預(yù)計(jì)2024 年將新開18座晶圓廠，產(chǎn)能將從760萬片推升至860 萬片。在半導(dǎo)體國產(chǎn)化趨勢下，國內(nèi)晶圓廠的擴(kuò)張也有望帶動(dòng)半導(dǎo)體配套設(shè)備的國產(chǎn)替代需求，將隨著晶圓工廠的擴(kuò)產(chǎn)持續(xù)增加。
顆粒污染影響產(chǎn)品品質(zhì)，半導(dǎo)體制造潔凈度要求高
根據(jù)國際半導(dǎo)體設(shè)備制造商協(xié)會(huì) (SEMI) 最近發(fā)布的世界晶圓廠預(yù)測?，超過50%的半導(dǎo)體產(chǎn)量損失可歸因于微污染。為了最大限度地減少良率損失，半導(dǎo)體制造廠必須在潔凈室中采用嚴(yán)格的污染控制策略。半導(dǎo)體制造工藝復(fù)雜，如何提高產(chǎn)品的成品率對于半導(dǎo)體企業(yè)在競爭中保持優(yōu)勢至關(guān)重要。影響半導(dǎo)體成品率的因素有很多，其中生產(chǎn)過程中的空氣雜質(zhì)（塵埃顆粒）是不可忽視的因素。由于高密度的集成電路的圖形特征尺寸和表面沉積層的厚度都已經(jīng)降到微米級別，更容易受到微粒的影響，這種微粒附著在半導(dǎo)體表面可能會(huì)形成致命的缺陷，導(dǎo)致器件失效。
LSI各制造工序與潔凈室的清潔條件
四方光電塵埃粒子計(jì)數(shù)器，讓潔凈室微塵無所遁形
四方光電在線粒子計(jì)數(shù)器OPC-6510DS采用光學(xué)散射原理，可精確檢測并計(jì)算單位體積內(nèi)空氣中不同粒徑的懸浮顆粒物的個(gè)數(shù)，具有28.3L/min大流量的氣體采樣速率，可同時(shí)輸出0.3um、0.5μm、1.0μm、5.0um、10um五個(gè)通道的顆粒數(shù)(默認(rèn)單位pcs/28.3L)，廣泛應(yīng)用于百級、千級、萬級、十萬級等潔凈室環(huán)境。
l 采用3.5寸觸摸屏，實(shí)時(shí)顯示各粒徑數(shù)量、等級以及報(bào)警信息等
l 內(nèi)置四方光電的塵源智能識(shí)別模塊，高效粒子識(shí)別率，檢測精度高
l 內(nèi)置超聲波流量傳感器，實(shí)現(xiàn)28.3L恒流采樣，數(shù)據(jù)長期穩(wěn)定性高
l 低噪音渦輪風(fēng)機(jī)采樣，連續(xù)監(jiān)測穩(wěn)定性好，壽命長
l 滿足IS014644-1:2015、新版GMP、JF1190-2008、GB/T6167-2007標(biāo)準(zhǔn)
| 滿足IS014644-1:2015、新版GMP、JF1190-2008、GB/T6167-2007標(biāo)準(zhǔn)
未來四方光電將繼續(xù)深耕光散射技術(shù)，不斷創(chuàng)新，為客戶提供定制化的潔凈室解決方案，幫助客戶提高產(chǎn)品質(zhì)量。
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