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X射線光電能譜儀作為一個分析儀器，在一些材料的分析和元素化學(xué)價態(tài)分析上使用較多。其使用的X射線光電子能譜是一種常見的分析表面成分分析法。
X射線光電子能譜儀
X-射線光電子能譜儀，是一種表面分析技術(shù)，主要用來表征材料表面元素及其化學(xué)狀態(tài)。其基本原理是使用X-射線，如AlKa=1486.6eV，與樣品表面相互作用，利用光電效應(yīng)，激發(fā)樣品表面發(fā)射光電子，利用能量分析器，測量光電子動能(K.E)，根據(jù)B.E=hv-K.E-W.F，進(jìn)而得到激發(fā)電子的結(jié)合能(B.E)。
設(shè)備組成
光電子能譜儀主要由激發(fā)源、電子能量分析器、探測電子的檢測器和真空系統(tǒng)等幾個部分組成。
工作原理
由激發(fā)源發(fā)出的具有一定能量的x射線、電子束、紫外光、離子束或中子束作用于樣品表面時，可將樣品表面原子中不同能級的電子激發(fā)出來，產(chǎn)生光電子或俄歇電子等，這些自由電子帶有樣品表面信息，并具有特征動能，通過能量分析收集和研究它們的能量分布，經(jīng)檢測記錄電子信號強(qiáng)度和電子嫩倆的關(guān)系曲線，即為光電子能譜。
X射線光電子能譜儀的應(yīng)用
XPS：固體樣品的表面組成分析，化學(xué)狀態(tài)分析，取樣訊息深度為～10nm以內(nèi).功能包括:
1.表面定性與定量分析.可得到小於10um空間分辨率的X射線光電子能譜的全譜資訊.
2.可進(jìn)行樣品的原位處理AES：1.可進(jìn)行樣品表面的微區(qū)選點(diǎn)分析(包括點(diǎn)分析，線分析和面分析)2.可進(jìn)行深度分析適合：納米薄膜材料，微電子材料，催化劑，摩擦化學(xué)，高分子材料的表面和界面研究
3.線掃瞄或面掃瞄以得到線或面上的元素或化學(xué)態(tài)分布.
4.成像功能.
5.維持10um以下的空間分辨率元素成分包括化學(xué)態(tài)的深度分析(角分辨方式,,氬離子或團(tuán)簇離子刻蝕方式)
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