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低溫磁控離子鍍膜儀

來源:天澤智能科技發(fā)展(天津)有限責(zé)任公司   2020年09月21日 22:44  

 

 

 

 

主要功能:

 

 

電子在電場(chǎng)的作用下,飛向基片過程中與氣體原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出氣體正離子和新的電子;新電子飛向基片,離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產(chǎn)生的二次電子借助于靶表面上形成的正交電磁場(chǎng),被束縛在靶表面特定區(qū)域,增強(qiáng)電離效率,增加離子密度和能量,從而實(shí)現(xiàn)高速率濺射。

主要應(yīng)用:

適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜(金膜、鉑金、銀、鎳、銅等),儀器操作簡(jiǎn)單方便,是配合各類型掃描電子顯微鏡制樣*的儀器。是制備低維度,小尺寸納米材料器件的*實(shí)驗(yàn)手段,廣泛應(yīng)用于集成電路,光子晶體,低維半導(dǎo)體、微生物、超微膜材料等領(lǐng)域。

配套世界主流掃描電子顯微鏡廠家:

熱電(美國(guó)原荷蘭)FEI鎢絲陰極、場(chǎng)發(fā)射、飛納臺(tái)式等各類型電子顯微鏡,蔡司(德國(guó))鎢絲陰極、場(chǎng)發(fā)射各系列的掃描電子顯微鏡,JEOL(日本電子)各類電鏡,日立(日本)各系列電鏡、臺(tái)式電鏡,TESCAN泰斯肯(捷克)各系列電鏡,還有如韓國(guó)“賽科”、COXEM庫賽姆、MIRERO等電鏡品牌及所有需要樣品前期處理,提高成像質(zhì)量、增強(qiáng)導(dǎo)電性能等表面鍍膜處理的樣品制備工作。

 

 

主要技術(shù)參數(shù):

  

 

標(biāo)準(zhǔn)型:   

1.顯示操作面為30°斜面,充分考慮操作的便捷和視覺體驗(yàn),方便觀察操作;

2.真空泵連接管路為金屬波紋管,美觀耐用;

3.微調(diào)閥調(diào)節(jié)靈敏準(zhǔn)確,帶有刻度標(biāo)識(shí);

4.真空泵抽速快,噪音低,適合實(shí)驗(yàn)室使用;

5.控制電路為控制板,工作穩(wěn)定可靠;

6.顯示控制操作部分布局合理,使用方便;

7.結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單可靠,布局合理,維修操作空間大;

升級(jí)型:

1.顯示操作面為30°斜面,充分考慮操作的便捷和視覺體驗(yàn),方便觀察操作;

2.真空泵連接管路為金屬波紋管,美觀耐用;

3.微調(diào)閥調(diào)節(jié)靈敏準(zhǔn)確,帶有刻度標(biāo)識(shí);

4.真空泵抽速快,噪音低,適合實(shí)驗(yàn)室使用;

5.控制電路為控制板,工作穩(wěn)定可靠;

6.顯示控制操作部分布局合理,使用方便;

7.優(yōu)化機(jī)型外觀,整潔大方,體積靈巧;

8.自動(dòng)真空的進(jìn)排氣,關(guān)機(jī)自動(dòng)放氣(標(biāo)準(zhǔn)版手動(dòng)放氣)

9.優(yōu)化機(jī)型外觀,整潔大方,體積靈巧。

10.數(shù)字方式定時(shí),0-9999秒?yún)^(qū)間自主調(diào)節(jié)。

低溫磁控型

1.顯示操作面為30°斜面,充分考慮操作的便捷和視覺體驗(yàn),方便觀察操作;

2.真空泵連接管路為金屬波紋管,美觀耐用;

3.微調(diào)閥調(diào)節(jié)靈敏準(zhǔn)確,帶有刻度標(biāo)識(shí);

4.真空泵抽速快,噪音低,適合實(shí)驗(yàn)室使用;

5.控制電路為控制板,工作穩(wěn)定可靠;

6.顯示控制操作部分布局合理,使用方便;

7.結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單可靠,布局合理,維修操作空間大;

8.自動(dòng)真空的進(jìn)排氣,關(guān)機(jī)自動(dòng)放棄(標(biāo)準(zhǔn)版手動(dòng)放氣)

9.優(yōu)化機(jī)型外觀,整潔大方,體積靈巧;

10.數(shù)字方式定時(shí),0-9999秒?yún)^(qū)間自主調(diào)節(jié);

11.采用冷陰極磁控濺射靶頭;

12.升降式上翻蓋結(jié)構(gòu),更換樣品方便快捷;

13.采用定制“凹”密封,更加方便操作;

14.增大樣品處理室空間,φ150X110高硬度耐高溫石英晶體;

15.定制型真空泵排氣過濾器;

16.獨(dú)立式升降樣品臺(tái)組件(標(biāo)準(zhǔn)為2支柱緊固型);

  1. 石英處理室:
  2.  
  3.  
  4. 濺射類型:(選一)

1.冷陰極磁控型二級(jí)濺射;

2.高壓直流二級(jí)濺射

3.高壓直流二級(jí)濺射升級(jí)版

  1. 樣臺(tái)尺寸:Φ40-150mm,樣品臺(tái)插孔19-61個(gè)可選;
  2. 樣品更換:升降式上翻蓋結(jié)構(gòu),上蓋打開可獨(dú)立支撐,
  3. 靶材尺寸:Φ50或φ57mm;
  4. 真空系統(tǒng):*型直聯(lián)旋片真空泵2L/S;
  5. 真空檢測(cè):定制皮氏計(jì),配合真空指針表,靈敏可靠;
  6. 真空保護(hù):20Pa配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空;
  7. 真空泄壓:自動(dòng)進(jìn)排氣(無需手動(dòng)放氣閥);
  8. 電路保護(hù):過載保護(hù);
  9. 工作室工作媒介氣體:空氣或氬氣,配有氬氣進(jìn)氣口;

 

 

離子濺射儀性能指標(biāo)及各系統(tǒng)組成

 

 

 

項(xiàng)目

說明

產(chǎn)品名稱

自動(dòng)低溫磁控離子濺射儀

型號(hào)

ISC-1000DCK,ISC-200,ISC-200B

容積、重量和尺寸

艙室尺寸

φ150X110 mm,φ108X135毫米

外形尺寸

主機(jī):約450X330X235mm;包裝尺寸:560X450X345

真空泵: 約480X135X200;包裝尺寸:580X215X367mm

重量

43

噪音

65db以內(nèi)(離機(jī)臺(tái)正面1米并離地面1.2米處測(cè)量)

大功率

約500W

大電流

約10A

 

 

供電條件和電源

 

AC220V +保護(hù)接地

電壓允許波動(dòng)范圍:10%

頻率允許波動(dòng)范圍:(50±0.5)HZ

TN-S方式供電或TT方式供電

保護(hù)地線接地電阻小于4Ω

性能指標(biāo)保證

功能保障

1.(空氣)室內(nèi)空間潔凈干燥;

2.可選配純凈氬氣氣源

3.按流程操作

理論膜厚計(jì)算

涂層的厚度

    一般來說,用于掃描樣品時(shí)金屬的厚度為100300 Å,經(jīng)驗(yàn)的厚度測(cè)定可由下面的公式得到:

         d=KIVt

    其中d是以“埃”為單位的鍍膜厚度。

    K是常數(shù),取決于濺射金屬和所充氣體,此時(shí)靶與樣品之間的距離大約是5cm

    I是等離子流的單位mA。

    V是以“KV“為單位所施電壓(1.68KV)。

    t是以秒為單位的時(shí)間。

采用金靶和氬氣時(shí)K0.17,如用空氣K 0.07。因此對(duì)于典型的濺射。

例如:I8mA,t100秒則,d=KIVt=0.17´8´100=136 Å

即每秒1.36 Å

濺射速度依賴于濺射系統(tǒng)本身的清潔程度,因此保護(hù)工作室的清潔十分重要。 

 

  

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