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截取錐經過設計具有的信號穩(wěn)定性并且在長時間運行含高濃度固溶物的樣品時可限度減少堵塞。持續(xù)暴露于等離子體和樣品中的采樣錐使用一種非螺紋式插入-拔出設計，便于快速拆除。
截取錐的產品特點：
經過精密設計和生產的大錐孔采樣錐和截取錐具有優(yōu)良的長期穩(wěn)定性并且不易堵塞，從而既能在高進樣速度也可在低進樣速度的條件下進行分析。鎳是一種適用于大多數(shù)樣品類型的非常堅固耐用的材料，而鉑是腐蝕性較強樣品的材料。
這些產品經過設計具有信號穩(wěn)定性并且在長時間運行含高濃度固溶物的樣品時可更大限度減少堵塞。持續(xù)暴露于等離子體和樣品中的采樣錐使用一種非螺紋式插入-拔出設計，便于快速拆除。
截取錐如何判斷該清洗或更換：
清潔錐體的頻率在很大程度上取決于該設備的應用和工作負荷。如果進樣很干凈，設備使用率較低，錐體只需每月清潔一次。但如果連續(xù)使用設備和/或進樣包含高濃度的溶解固體或腐蝕性非常強，錐體就需要每天清潔。
如果在錐孔附近出現(xiàn)可見沉積物或如果錐孔被阻塞或扭曲，則應該對錐體進行清潔。ICP-MS性能的劣化也可作為需要清潔錐體的指示信號。尤其是出現(xiàn)背景信號增多、記憶效應、靈敏度降低或波峰形狀扭曲等情況。設備真空讀數(shù)的改變也說明錐體可能出現(xiàn)問題。如果錐孔被阻塞，真空讀數(shù)會增加(壓力降低)，盡管在這之前通常已經出現(xiàn)性能劣化。如果真空讀數(shù)降低(壓力增加)，則可能表示錐孔已磨損，大小有所增加。出現(xiàn)這種情況需要更換錐體。
采樣錐需要接觸離子溶液，通常清潔頻率要比截取錐高一些。如果清潔錐體之后設備性能沒有恢復，那么您需要更換錐體。
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