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真空鍍碳儀是專業(yè)為掃描電鏡SEM鍍碳應(yīng)用而設(shè)計(jì)的噴碳儀，在進(jìn)口真空鍍碳儀品牌中具有競(jìng)爭(zhēng)力的真空鍍碳儀價(jià)格,是取代傳統(tǒng)真空鍍膜儀器的理想鍍碳儀器。
主要特性：
1、*的受反饋控制的碳棒蒸發(fā)系統(tǒng)可以在膜厚大約20nm左右進(jìn)行多次蒸發(fā)，無(wú)須切削或調(diào)整碳棒形狀；
2、108C中使用的高純碳棒可以在高倍條件下得到高質(zhì)量的鍍膜效果。該鍍膜系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊，容易操作，抽真空周期短；
3、使用新型的蒸發(fā)裝置：電流和電壓通過(guò)磁控頭的傳感線監(jiān)控，蒸發(fā)源作為反饋回路中的一部分被控制。該蒸發(fā)裝置使常規(guī)的碳棒具有優(yōu)良的穩(wěn)定性和重現(xiàn)性。功率消耗低，碳棒具有優(yōu)異的重新蒸鍍特性。蒸發(fā)源可以通過(guò)脈沖或連續(xù)的方式操作；
4、可選擇手動(dòng)或自動(dòng)方式操作；
5、自動(dòng)模式下，蒸發(fā)源按程序設(shè)定的電壓和時(shí)間進(jìn)行噴鍍。手動(dòng)模式下，*的設(shè)計(jì)允許以脈沖或連續(xù)的方式操作，并通過(guò)旋鈕控制輸出電壓。
真空鍍碳儀的操作規(guī)程：
1、連接電源并打開(kāi)主機(jī)（POWER）；
2、等綠燈亮后，再等3~5分鐘再調(diào)節(jié)電壓（4V）和時(shí)間（6s）；
3、打開(kāi)主機(jī)背面的小開(kāi)關(guān)，調(diào)整轉(zhuǎn)速在3~4檔，并設(shè)定電壓和時(shí)間；
4、打開(kāi)測(cè)厚儀并使其歸零；
5、按START鍵開(kāi)始噴碳；
6、實(shí)驗(yàn)結(jié)束先停止設(shè)備轉(zhuǎn)動(dòng)，并先關(guān)掉設(shè)備背面小開(kāi)關(guān)；
7、再關(guān)POWER；
8、關(guān)機(jī)后打開(kāi)玻璃罩上蓋，等其降到實(shí)溫之后再將其蓋好。
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