導(dǎo)言 PVD(物理氣相沉積)或CVD(化學(xué)氣相沉積)技術(shù)沉積的 陶瓷涂層，在這里稱為“硬質(zhì)涂層”，通常具有耐 磨、耐腐蝕和低摩擦系數(shù)等性能。 不同的參數(shù)(如成分、微觀結(jié)構(gòu)、厚度、內(nèi)應(yīng)力、結(jié) 合強(qiáng)度、硬度、延展性、韌性、熱穩(wěn)定性)會(huì)影響硬 質(zhì)涂層的摩擦、磨損以及耐化學(xué)腐蝕性能。

不同的方法可用于測(cè)試硬質(zhì)涂層的力學(xué)性能。摩擦學(xué) 測(cè)試為涂層在實(shí)際應(yīng)用中體現(xiàn)相關(guān)的重要性能提供了 有用信息，如摩擦系數(shù)和磨損。儀器式的壓痕試驗(yàn)可 測(cè)試涂層硬度和彈性模量。 但這些方法不能為涂層沉積過程的質(zhì)量控制提供完整 的信息。劃痕試驗(yàn)可測(cè)量涂層的抗劃性能和與基體的 結(jié)合力，提供了測(cè)試涂層/基體材料完整性的手段。 本應(yīng)用報(bào)告從不同的方面詳細(xì)介紹了涂層質(zhì)量控制的 劃痕測(cè)試方法。

測(cè)試原理 對(duì)于零件生產(chǎn)來說，能夠有量化評(píng)估零件質(zhì)量是否相 同的手段是非常重要的。劃痕測(cè)試方法可以定量分析 硬質(zhì)涂層的性能，如涂層與基體結(jié)合力、涂層內(nèi)應(yīng)力 一致性、沉積過程(包括基材的清潔度、表面材料的質(zhì) 量、沉積過程的質(zhì)量、設(shè)備的情況)等。 對(duì)于硬質(zhì)涂層的質(zhì)量控制，主要參考ISO- 20502(以 及ASTM C1624-05)標(biāo)準(zhǔn)，其中介紹了劃痕測(cè)試方法: “劃痕測(cè)試是為了評(píng)估涂層表面與基體的機(jī)械完整性 而設(shè)計(jì)的。用已知形狀的劃痕頭 (通常是Rockwell C 形狀的金剛石劃痕頭) ，在待測(cè)涂層/基體材料的表面 施加恒定法向力或遞增的法向力，從而產(chǎn)生劃痕（圖 2）。失效模式可以通過對(duì)劃痕的微觀觀測(cè)，或聲發(fā) 射、摩擦力來進(jìn)行分析?！?

劃痕試驗(yàn)可以向表面施加恒定或線性增加的法向力。 線性加載的意義，主要是通過一個(gè)簡(jiǎn)單的實(shí)驗(yàn)，同時(shí) 得到涂層到內(nèi)聚力失效和結(jié)合力失效對(duì)應(yīng)的臨界載荷 （即臨界應(yīng)力）。 如圖3所示，通過劃痕實(shí)驗(yàn)，可快速測(cè)得涂層與基體 結(jié)合力失效所對(duì)應(yīng)的臨界載荷。

表征方法 “通過劃痕頭施加的法向力，使涂層/基體材料產(chǎn)生內(nèi) 聚力或結(jié)合力失效形式?！?不同失效模式的區(qū)別：結(jié)合力失效（涂層與基體分 層，通常在DLC涂層上觀察到此現(xiàn)象），內(nèi)聚力失效 （涂層斷裂，通常在TiN涂層上觀察到此現(xiàn)象）。不同 的失效模式可以用來判斷樣品的機(jī)械強(qiáng)度（見圖4）。

 “劃痕試驗(yàn)中，彈塑性壓痕應(yīng)力、摩擦應(yīng)力和涂層 殘余應(yīng)力的產(chǎn)生通常會(huì)引起涂層/基體材料的失效。 失效點(diǎn)對(duì)應(yīng)的法向力，稱為臨界載荷Lc。” 因此，臨界載荷，Lc，與涂層/基體材料(或多層涂 層/基體材料)的機(jī)械完整性能有關(guān)。材料所受應(yīng)力 如圖5所示。

“涂層產(chǎn)生裂紋時(shí)，其對(duì)應(yīng)的臨界載荷，為L(zhǎng)c1。涂層 發(fā)生剝離時(shí)對(duì)應(yīng)的臨界載荷，為L(zhǎng)c2。試驗(yàn)過程產(chǎn)生的 一系列的失效模式，通常用于研究涂層表面的力學(xué)性 能，其中第n種失效模式定義為臨界載荷Lcn?！?

涂層出現(xiàn)裂紋所對(duì)應(yīng)的臨界載荷為L(zhǎng)c1，涂層出現(xiàn)分 層或斷裂失效所對(duì)應(yīng)的臨界載荷為L(zhǎng)c2，涂層與基體 *分層所對(duì)應(yīng)的臨界載荷為L(zhǎng)c3。出現(xiàn)Lc1、Lc2和 Lc3失效的實(shí)例如圖6（a-c）所示。

臨界法向力Lcn，可能不容易被光學(xué)手段或傳感器信 號(hào)(AE或摩擦力)檢測(cè)到。通過劃痕測(cè)試的方法，可以 快速選擇適合的參數(shù)(光學(xué)、聲發(fā)射、摩擦或深度) 檢測(cè)失效模式，來對(duì)涂層進(jìn)行質(zhì)量控制。 確定臨界法向力或臨界荷載，Lcn，的難度主要體現(xiàn) 在兩個(gè)方面: • 檢測(cè)難度：硬質(zhì)涂層中出現(xiàn)的典型裂紋容易被聲 發(fā)射(AE)傳感器檢測(cè)到，但很難通過光學(xué)方法觀 察到。因此，選擇合適的檢測(cè)方法（光學(xué)、深 度、聲發(fā)射或摩擦）是非常重要的； • 誤讀：每個(gè)用戶對(duì)不同失效模式有自己的判斷。 特定涂層/基體材料的失效模式通常具有高度重復(fù)性 (例如，TiN涂層產(chǎn)生典型的內(nèi)聚力失效模式，而DLC 涂層往往產(chǎn)生結(jié)合力失效模式)。 在質(zhì)量控制中，我們可以通過初始階段的測(cè)量和研 究，來避免出現(xiàn)上述的問題，從而確定出最合適的且 不出現(xiàn)誤解的臨界載荷。

質(zhì)量控制中劃痕測(cè)試的具體方面

劃痕頭頂部表征 影響劃痕測(cè)試但又容易被忽略的一個(gè)重要參數(shù)是劃痕 頭頂部的幾何形狀及其質(zhì)量。 劃痕實(shí)驗(yàn)主要測(cè)試劃痕頭和涂層表面之間的機(jī)械作 用，其結(jié)果高度依賴于局部接觸面積的微小變化。因 此，定期檢查劃痕頭頂部的質(zhì)量是極其重要的。

Rtec Instruments提供一種集成三維形貌的劃痕儀， 可通過高分辨率的3D圖像快速觀察到針尖損壞或污 染，監(jiān)控劃痕頭頂部質(zhì)量?？墒褂贸暡ɑ驒C(jī)械拋光 定期清洗頂部，確保劃痕測(cè)試中接觸面積的一致性。 這個(gè)過程可以通過劃痕測(cè)試方法中的控制步驟完成。

 儀器檢定及校準(zhǔn) 設(shè)備的校正，特別是法向力的校正，是非常重要的。 可使用一種具有Lc(n)確認(rèn)值的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行劃痕試 驗(yàn)，來定期檢定儀器(每周一次或在一系列試驗(yàn)之 后)。 這種通過標(biāo)準(zhǔn)樣品對(duì)整個(gè)系統(tǒng)進(jìn)行標(biāo)定，可以同時(shí)檢 定設(shè)備和劃痕頭頂部的方法具有顯著的優(yōu)勢(shì)。

幾何形狀和表面粗糙度 通過伺服控制，劃痕頭施加的載荷被連續(xù)監(jiān)測(cè)和控 制。通過補(bǔ)償，劃痕頭的位置貼合于樣品形狀?？梢?對(duì)圓柱體和球體進(jìn)行劃痕測(cè)試，主要的限制是與樣品 表面接觸的劃痕頭頂部尺寸和形狀。劃痕頭頂部可以 通過簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì)適應(yīng)于特殊形狀的表面。 劃痕試驗(yàn)過程建議使用具有統(tǒng)計(jì)一致性的粗糙度表 面。使用粗糙度Ra不超過0.5微米的表面是最佳的。 實(shí)際制造的零件可能無法達(dá)到這個(gè)理想值，但不妨礙 測(cè)試并分析比較粗糙的表面。缺點(diǎn)是需要考慮 測(cè)得的數(shù)據(jù)離散度較高。

Rtec Instruments帶三維形貌（白光干涉儀(WLI)和 共焦顯微鏡）的劃痕儀，可以全面觀察硬質(zhì)涂層的 機(jī)械和表面特性。 > 自動(dòng)化質(zhì)量控制和樣品編程平臺(tái) 計(jì)算機(jī)控制的工作臺(tái)（X,Y,Z：150mmX150mX100mm） 具有可測(cè)試不同樣品的編程能力，為質(zhì)量控制提供了 先進(jìn)的自動(dòng)化系統(tǒng)。傳感器和3D成像技術(shù)可以完整分 析劃痕試驗(yàn)結(jié)果，節(jié)省了操作人員的時(shí)間，大大提高 了效率。