Aston™ 質譜分析儀安全地減少設備停機時間
預防性維護是良好晶圓廠管理與安全di一的理念支柱. 刻蝕和沉積設備需要定期脫機進行深度清潔和/或打開工藝室進行部件更換. 考慮到沉積或蝕刻工藝設備的每小時折舊和生產(chǎn)損失可能輕易超過 1000美元/小時, 減少設備停機時間是至關重要的. 但是, 考慮到許多工具都有高度腐蝕性的清潔氣體或工藝副產(chǎn)物氣體, 如 HCl, NF3, HBr, HF, F, Cl, 如何安全地停機維護是一個挑戰(zhàn).

問題
在打開腔室進行日常維護之前, 需要安全地清除腔室內的工藝副產(chǎn)品或清潔循環(huán)中的殘留工藝氣體, 然而,挑戰(zhàn)在于如何確保腔室在打開之前是安全的并且沒有有害殘留氣體. 已知的一個方法, 確保工藝室不含有害殘留氣體（包括由表面去吸收產(chǎn)生的殘留氣體）的方法是運行（過長）長壓力循環(huán)吹掃氣體. 在沒有計量或反饋的情況下, 吹掃周期需要足夠長以確保腔室沒有有害物質, 這會導致效率低下, 周期長和設備停機時間長. 由于靈敏度和等離子體可用性的問題, 不能使用常見的計量解決方案, 例如光學發(fā)射光譜. 傳統(tǒng)的殘余氣體分析儀在腐蝕性氣體環(huán)境中工作時面臨挑戰(zhàn), 這可能導致電子沖擊燈絲在長吹掃周期中腐蝕和故障.

上海伯東日本 Atonarp Aston™ 質譜分析儀減少設備停機時間解決方案
Aston 原位質譜儀可以進行快速, 化學特異性原位定量氣體分析, 以實現(xiàn)準確和快速的腔室吹掃終點檢測. 與典型的基于時間的清洗程序相比, 這可以節(jié)省大量的設備停機時間。 由于 Aston™ 質譜分析儀可用于加速泄漏檢測和腔室老化到已知良好腔室化學指征, 因此可以實現(xiàn)清潔后的進一步停機.在不需要等離子體的情況下, 每秒可以采集數(shù)十個樣本, 靈敏度低至 <100 PPB（十億分之幾）水平. 除了基于燈絲的電子碰撞電離源外, Aston Plasma 還提供內部等離子電離能力. 雙電離源支持較寬的工藝壓力范圍, 等離子電離允許分析較高壓力下的苛刻氣體, 而不會出現(xiàn)殘留氣體分析儀中常見的燈絲腐蝕問題.

通過減少設備停機時間和重新調試, 可以在不到 12 個月內實現(xiàn)回報, 此外, Aston™ 質譜分析儀還為現(xiàn)場過程監(jiān)控和管理提供了價值優(yōu)勢.

Aston™ 質譜分析儀是一種具有成本效益的解決方案, 可在日常維護和后續(xù)維護后投產(chǎn)調試前實現(xiàn)快速, 安全的腔室清洗. 除了 Aston ™ 在沉積和蝕刻過程控制中提供的過程監(jiān)控優(yōu)勢外, 還可以通過原位測量靈敏度和速度來顯著減少設備停機時間.


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上海伯東: 羅先生