FR-Scanner-AIO-Mic-XY200: 微米級(jí)定位精度自動(dòng)化薄膜厚度測(cè)繪系統(tǒng)介紹    

FR-Scanner-AIO-Mic-XY200是一款自動(dòng)薄膜厚度測(cè)繪系統(tǒng)，用于全自動(dòng)圖案化晶圓上的單層和多層涂層厚度測(cè)量。電動(dòng)X-Y載物臺(tái)提供適用尺寸 200mm x 200mm毫米的行程,通過真空固定在載臺(tái)上時(shí)進(jìn)行精確測(cè)量?？梢罍y(cè)量厚度和波長(zhǎng)范圍應(yīng)用需求可在在 200-1700nm 光譜范圍內(nèi)提供各種光學(xué)配置.

應(yīng)用

o 大學(xué) & 研究實(shí)驗(yàn)室

o 半導(dǎo)體（氧化物、氮化物、Si、抗蝕劑等）

o MEMS 器件（光刻膠、硅膜等）

o LED、VCSEL、BAW 、 SAW filter

o 數(shù)據(jù)存儲(chǔ)

o 聚合物涂料、粘合劑等。

o其他各種工業(yè)……

（聯(lián)系我們客制化您的應(yīng)用需求）

FR-Scanner-AllInOne-Mic-XY200 模塊化厚度測(cè)繪系統(tǒng)平臺(tái)，集成了先進(jìn)的光學(xué)、電子和機(jī)械模塊，用于表征圖案化薄膜光學(xué)參數(shù)。典型案例包括（但不限于）微圖案表面、粗糙表面等。

晶圓放置在真空吸盤上，該真空吸盤支持尺寸/直徑達(dá) 200 毫米的各種晶圓，執(zhí)行測(cè)量光斑尺寸小至幾微米的強(qiáng)大光學(xué)模塊。電動(dòng)平臺(tái)提供XY方向  200 毫米的行程，在速度、精度和可重復(fù)性方面具有很高的性能.

FR-Scanner-AIO-Mic-XY200提供：

o 實(shí)時(shí)光譜反射率測(cè)量

o 薄膜厚度、光學(xué)特性、不均勻性測(cè)量、厚度測(cè)繪

o 使用集成的、USB 連接的高質(zhì)量彩色相機(jī)進(jìn)行成像

     o 測(cè)量參數(shù)的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)

特征

o 單擊分析（無需初始猜測(cè)）

o 動(dòng)態(tài)測(cè)量

o 光學(xué)參數(shù)（n & k、色座標(biāo)）

o Click2Move 和圖案測(cè)量位置對(duì)齊功能

o 多個(gè)離線分析安裝

o 免費(fèi)軟件更新

規(guī)格

Principle of Operation 測(cè)量原理

White Light Reflectance Spectroscopy (WLRS) 白光反射光譜是測(cè)量從單層薄膜或多層薄膜堆疊結(jié)構(gòu)的一個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi)的反射量，入射光垂直于樣品表面，由于界面干涉產(chǎn)生的反射光譜被用來計(jì)算確定（透明或部分透明或*反射基板上）薄膜的厚度、光學(xué)常數(shù)（N&K）等。

*1規(guī)格如有變更，恕不另行通知，*2與校正過的光譜橢偏儀和x射線衍射儀的測(cè)量結(jié)果匹配，*3超過15天平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差平均

值，樣品:硅晶片上1微米SiO2，*4標(biāo)準(zhǔn)偏差100次厚度測(cè)量結(jié)果，樣品:硅晶片上1微米SiO2, *5 15天內(nèi)每日平均值的2*標(biāo)準(zhǔn)差。樣品:硅片上1微米SiO2。