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為了研究植物的生長、產(chǎn)量和品質(zhì)與光能利用的關系，有必要調(diào)查植物冠層的光資源，測量植物冠層對光的截獲量。以前技術(shù)不成熟的時候，科研人員很難對其進行測量和分析，往往需要大量的時間和精力。隨著科學技術(shù)的發(fā)展，冠層分析儀得到了研究者的廣泛應用。從實際應用來看，該儀器仍然可以發(fā)揮很大的作用。
冠層分析儀通過處理圖像數(shù)據(jù)文件獲得冠層結(jié)構(gòu)，如葉面積指數(shù)、光照間隙和間隙分布。通過分析輻射數(shù)據(jù)的相關信息，可以計算出冠層截獲的PAR和冠層以下的輻射水平。因此，與直接測量方法相比，利用冠層分析儀測量冠層數(shù)據(jù)可以避免直接測量方法對植被造成大規(guī)模破壞的缺點。而且使用儀器進行測量操作具有方便、不受時間限制、數(shù)據(jù)量大等優(yōu)點，非常適合現(xiàn)代農(nóng)業(yè)科研。目前，冠層分析儀廣泛應用于農(nóng)業(yè)、園藝、林業(yè)等領域與栽培、育種、植物類群比較和開發(fā)相關的研究和教學工作中，并在實際應用中發(fā)揮了作用。
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