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離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過(guò)程中提供了更廣泛的選擇，以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及人機(jī)界面方面更加注重人性，簡(jiǎn)單智能。濺射率是描述濺射特性的一個(gè)最重要物理參量。它表示正離子轟擊靶陰極時(shí)，平均每個(gè)正離子能從陰極上打出的原子數(shù)。又稱濺射產(chǎn)額或?yàn)R射系數(shù)，常用S表示。
1、一般工作距離可調(diào)，距離越近，濺射速度越快，但熱損傷會(huì)增加。
2、離子流的大小通過(guò)控制真空壓力實(shí)現(xiàn)，真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子結(jié)晶晶粒越粗，電子轟擊樣品（陽(yáng)極）產(chǎn)生的熱量越高；真空度越高,I越小，濺射速度越慢，原子結(jié)晶晶粒越細(xì)小，電子轟擊樣品產(chǎn)生的熱量小。
3、加速電壓為固定,也有可調(diào)的，加速電壓越高，對(duì)樣品熱損傷越大。一般使用金屬靶材的正比區(qū)域。
4、有些熱敏樣品，需要對(duì)樣品區(qū)進(jìn)行冷卻，水冷或者帕爾貼冷卻；也可以采用磁控裝置，像電磁透鏡一樣把電子偏離樣品。經(jīng)過(guò)這樣的改造，當(dāng)然會(huì)增加很高的成本?？梢栽谑灡砻鏋R射一層金屬，而沒(méi)有任何損傷！
5、真空中的雜質(zhì)越多，鍍膜質(zhì)量越差。一般黃金比較穩(wěn)定，可以采用空氣作為等離子氣源，而其他很多靶材則需要惰性氣體為好。
6、氣體原子序數(shù)越高，動(dòng)量越大，濺射越快，但晶粒會(huì)較粗，連續(xù)成膜的膜層較厚。
7、保持真空室的潔凈對(duì)高質(zhì)量的鍍膜有很大好處。
8、不要讓機(jī)械真空泵長(zhǎng)期保持極限真空，否則容易反油。
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