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等離子表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。在于對物體表面處理，清洗、改性、刻蝕等；解決用戶不同的表面處理需求。
等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性“組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。
該設(shè)備憑借等離子體中活性粒子的“活化作用”來使得將物體表面污漬去除的目的達到為等離子體清洗的機理。就反應(yīng)機理來觀察。將無機氣體激發(fā)為等離子態(tài)、在固體表面吸附氣相物質(zhì)、被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)使產(chǎn)物分子生成、產(chǎn)物分子被解析使氣相形成以及反應(yīng)殘余物從表面脫離為等離子體清洗一般所包含的過程。
等離子表面處理儀在材料學(xué)，光學(xué)，電子學(xué)，醫(yī)藥學(xué)，環(huán)境學(xué)、生物學(xué)等科研領(lǐng)域得了廣泛的應(yīng)用，主要用于材料表面清洗、活化、沉積、去膠、刻蝕、接枝聚合、疏水、親水、金屬還原、去除有機物、鍍膜前處理等。
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