全反射X射線熒光(TXRF)前處理方式的考量

來(lái)源：北京利曼科技有限公司 2024年02月21日 10:08

全反射X射線熒光(TXRF)是一種微量分析方法，特別適用于樣品量小的樣品，一次分析所需樣品量，固體材料可達(dá)μg級(jí)，液體樣品則通常少于100μL。

TXRF受自身原理限制，樣品于玻片上必須滿足薄層的要求，以消除普遍存在于EDXRF中的基體影響。因此，其樣品量明顯減少，且前處理方式也有著明顯不同。

通常，可根據(jù)樣品形態(tài)選擇合適的前處理方式，且可能需要考慮如下的幾點(diǎn)要求：

a. 于樣品玻片上形成均勻的薄層；

b. 待測(cè)元素及內(nèi)標(biāo)元素均勻分布；

c. 待測(cè)元素的富集；

d. 待測(cè)元素與干擾元素的分離；

e. 阻止樣品溶液擴(kuò)散；

基于以上因素，TXRF所采用的前處理既繼承了部分常見(jiàn)無(wú)機(jī)元素檢測(cè)中的方法，又發(fā)展出了具有自身特色的前處理方式，如下圖：

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