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在半導體制造中，英?？档恼婵湛刂飘a品可應用于各種工藝步驟，確保精準控制零件及設備生產所必需的真空條件。
并且，我們的產品技術在全球范圍的眾多客戶處都得到應用與印證，是能夠幫助企業(yè)提高生產力、效率、正常運行時間和產量的很好方案。
晶體拉制
在晶體拉制過程中，英福康的電容真空計系列可以控制拉制腔內的工藝壓力，從而生長出無瑕的硅晶體。這種精準的壓力控制對于實現*佳晶體生長至關重要，并有助于提高半導體材料的質量和純度。
氧化/柵極電介質和離子注入
在氧化/柵極電介質和離子注入等工藝中，英福康的真空控制產品可確保穩(wěn)定的真空環(huán)境。電容真空計系列可監(jiān)控工藝壓力，而皮拉尼真空計和冷陰極真空計則可提供全系統(tǒng)壓力控制。這種細致的調節(jié)對于獲得理想的材料特性和摻雜精度至關重要，從而直接影響到半導體器件的性能。
光刻技術
在光刻工藝中，英?？嫡婵湛刂平鉀Q方案（包括電容真空計和皮拉尼真空計）以及熱離子真空計和冷陰極真空計可實現工藝系統(tǒng)內精準的壓力控制。
真空元件可確保無泄漏連接，有助于提高光刻工藝的穩(wěn)定性和準確性。
蝕刻
在蝕刻工藝中，英?？档恼婵湛刂飘a品，特別是電容式真空計，可調節(jié)工藝壓力，實現精準的材料去除。電容計、皮拉尼計、熱離子計和冷陰極的組合則可實現全系統(tǒng)的壓力控制，以確保蝕刻的一致性和高工藝可重復性。
此外，采用了光學氣體分析裝置的 Augent® OPG550 能夠監(jiān)測蝕刻過程中使用的氣體成分，進一步確保工藝穩(wěn)定性和精準的材料去除。
CVD、PVD、ALD、EPI 和 RTP
在 CVD、PVD、ALD、EPI 和 RTP 等工藝中，英?？档恼婵湛刂飘a品在調節(jié)工藝壓力、確保材料精準沉積和開發(fā)方面發(fā)揮著重要作用。
電容真空計系列可監(jiān)控過程壓力，而熱離子計、冷陰極和真空配件則有助于進行穩(wěn)定的系統(tǒng)壓力控制，提高過程均勻性和設備性能。我們的光學氣體分析儀 Augent® OPG550 能夠監(jiān)控材料沉積過程中的氣體成分，確保*佳條件。
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