光譜橢偏儀廣泛用于薄膜分析和測量。Holmarc 的光譜橢偏儀采用旋轉分析儀橢偏技術來表征薄膜樣品。它使用高速 CCD 陣列檢測來收集整個光譜。它可以測量從納米厚度到幾十微米

的薄膜，以及從透明材料到吸收材料的光學特性。它能精確測量折射率、薄膜厚度和消光系數等光學常數。

                                                                                              規(guī)格

    光譜范圍：450 - 800 納米

    橢偏儀配置 ：  RAE

    探測器：3648 像素 CCD 線性傳感器

    光譜分辨率：1 納米

    入射角：50 - 75 度（分辨率 0.1 度，自動操作）

    樣品聚焦：自動

    樣品厚度：0.3 毫米 - 8 毫米

    厚度測量范圍：20 納米 - 10 微米

    薄膜厚度分辨率：0.01 納米

    測量 R.I 的分辨率：0.001

    樣品校準 ：  手動傾斜

    樣品測量  自動

    厚度分析：先進的數學擬合算法

    軟件功能

    自動操作

    自動樣品聚焦

    用戶可擴展材料庫

    數據可保存為 Excel 格式

    數學擬合算法

    多層厚度測量

    推導厚度和光學常數

橢偏原理

橢偏儀是一種高靈敏度的薄膜分析技術。其原理依賴于光從表面反射時偏振態(tài)的變化。

為了描述與電磁波電場方向相對應的偏振態(tài)，選擇了兩個方向作為參考，即 p 方向（平行）和 s 方向（垂直）。反射光在 p 方向和 s 方向的相位變化不同。橢偏儀可以測量這種偏振狀態(tài)；

p = rp / rs = tan Ψe iΔ

其中，Ψ 和 Δ 分別是 p 和 s 分量的振幅比和相移。由于橢偏儀測量的是兩個值的比值，因此非常精確且可重復。

特點

    非破壞性和非接觸式技術

    分析單層和多層樣品

    精確測量超薄薄膜

    用于測量、建模和自動操作的軟件

    統(tǒng)一的 (Ψ, Δ) 測量靈敏度