半導(dǎo)體超純水的作用：保障半導(dǎo)體制造質(zhì)量的重要環(huán)節(jié)

一、半導(dǎo)體超純水的作用

半導(dǎo)體超純水指的是經(jīng)過多級過濾、反滲透、電離交換等處理工藝得到的高純度水。在半導(dǎo)體制造過程中，半導(dǎo)體超純水的作用主要體現(xiàn)在以下幾個方面：

1. 清洗：半導(dǎo)體超純水能夠有效清洗半導(dǎo)體產(chǎn)品表面的雜質(zhì)和污染物，保證半導(dǎo)體產(chǎn)品的品質(zhì)。

2. 冷卻：半導(dǎo)體超純水作為冷卻介質(zhì)，能夠有效降低半導(dǎo)體產(chǎn)品的溫度，減少熱應(yīng)力，提高半導(dǎo)體產(chǎn)品的穩(wěn)定性。

3. 溶解：半導(dǎo)體超純水能夠溶解半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中用到的各種化學(xué)試劑，保證化學(xué)反應(yīng)的純度和穩(wěn)定性。

4. 傳輸：半導(dǎo)體超純水能夠傳輸半導(dǎo)體產(chǎn)品生產(chǎn)過程中需要的各類物質(zhì)，如金屬離子、有機物等

二、半導(dǎo)體超純水在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中的重要性

半導(dǎo)體超純水是半導(dǎo)體制造的重要環(huán)節(jié)之一，它直接關(guān)系到半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量和穩(wěn)定性。在半導(dǎo)體制造過程中，如果使用的水源不夠純凈，就會導(dǎo)致半導(dǎo)體產(chǎn)品表面的雜質(zhì)和污染物過多，從而影響半導(dǎo)體產(chǎn)品的品質(zhì)和穩(wěn)定性。此外，半導(dǎo)體超純水還能夠有效延長半導(dǎo)體產(chǎn)品的使用壽命，提高半導(dǎo)體產(chǎn)品的可靠性。

總之，半導(dǎo)體超純水在半導(dǎo)體制造中起著至關(guān)重要的作用，它不僅能夠保障半導(dǎo)體制造過程中的質(zhì)量，還能夠有效延長半導(dǎo)體產(chǎn)品的使用壽命。因此，半導(dǎo)體制造企業(yè)應(yīng)該高度重視半導(dǎo)體超純水的質(zhì)量和使用，確保半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量和穩(wěn)定性。

清洗工序約占半導(dǎo)體制造工序的30%，采用“超純水”（UPW），最大限度地去除雜質(zhì)。

超純水是通過最大限度地去除天然水中的雜質(zhì)而得到凈化的水。自來水中含有溶解的各種物質(zhì)，包括鈣、鎂等礦物質(zhì)以及氯等消毒劑。這些雜質(zhì)會嚴重損害半導(dǎo)體制造等精密工藝中的產(chǎn)品質(zhì)量。

因此，在半導(dǎo)體制造等要求高純度的領(lǐng)域， 去除有機物、微粒、溶解氣體等，使離子更接近氫離子（H+）和氫氧根離子（OH-）。被使用。

半導(dǎo)體制造涉及一系列復(fù)雜的工藝，需要極其先進的技術(shù)。超純水是該制造過程的重要組成部分。

在半導(dǎo)體制造中，復(fù)雜的電路圖案形成在稱為硅晶片的薄板上。在此過程中，會進行各種處理，例如切割晶圓和注入雜質(zhì)。在這些處理之后，幾乎總是有一個清潔步驟。

該清洗過程使用超純水。超純水是最大限度去除雜質(zhì)的極其純凈的水。超純水之所以如此重要，是因為半導(dǎo)體電路極其微小，即使是最輕微的雜質(zhì)也會對產(chǎn)品性能產(chǎn)生重大影響。

因此PFA取樣瓶在半導(dǎo)體領(lǐng)域被廣泛應(yīng)用

PFA試劑瓶也叫特氟龍試劑瓶、取樣瓶、樣品瓶，它耐受強酸堿及高低溫，主要用于痕量分析、同位素檢測，半導(dǎo)體、ICP-MS/OES/AAS分析實驗。

常用規(guī)格：30ml 60ml 100ml 250ml 500ml 1000ml 2000ml 3000ml 4000ml 5000ml等

PFA試劑瓶有廣口和小口之分，廣口適合盛放固體樣品，小口適合盛放液體樣品，不易揮發(fā)。

產(chǎn)品特性

1、外觀半透明；

2、耐高底溫：使用溫度-200～+260℃；

3、耐腐蝕：耐強酸、強堿、王水、氫氟酸和各種有機溶劑；

4、防污染：金屬元素雜質(zhì)含量低于0.01ppb，滿足ICP超高實驗要求；

5、瓶口和瓶蓋密封性好，無需瓶塞，液體不滲漏；可長期密封存儲高純試劑及標(biāo)準(zhǔn)樣品；

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、新材料、多晶硅、太陽能光伏、電子材料、重金屬檢測等行業(yè)

可配套安捷倫、島津、PE、賽默飛等品牌儀器使用