清潔驗(yàn)證程序旨在降低產(chǎn)品污染或生產(chǎn)設(shè)備上有殘留化合物的風(fēng)險(xiǎn)。在驗(yàn)證清潔工藝時(shí)，必須證明該工藝始終能夠清除殘留產(chǎn)品、工藝污垢、潛在污染物、產(chǎn)品輔料等。還必須證明該工藝能夠清除清潔劑以及清潔劑的降解物。

兩種最常見的水質(zhì)清潔劑（即堿性清潔劑和酸性清潔劑）是清潔工藝的4個(gè)主要清潔要素之一。關(guān)鍵性的清潔要素通常包括時(shí)間、動(dòng)作、濃度、溫度（簡(jiǎn)稱TACT，即Time、Action、Concentration、Temperature），其中清潔劑的主要作用是為所有工藝污垢和產(chǎn)品污垢創(chuàng)造“降解”環(huán)境。由于污垢被降解，行業(yè)的常規(guī)做法是用總有機(jī)碳（TOC，Total Organic Carbon）分析法來分析化合物和清潔劑的去除情況。清潔劑通常含有少量的碳（5%至10%）。

過去數(shù)十年來，堿性清潔劑被用來清潔制藥、生物制藥、化妝品、醫(yī)療設(shè)備、食品補(bǔ)充劑、乳制品、食品飲料等行業(yè)的生產(chǎn)設(shè)備。TOC分析法是非?？煽康臏y(cè)量方法，用來測(cè)量和控制清潔要素（TACT）所發(fā)揮的作用。具體地說，TOC分析法可以測(cè)量被清潔的生產(chǎn)設(shè)備表面上的有機(jī)物殘留量。

測(cè)量TOC的分析技術(shù)，無非是將樣品中的有機(jī)分子氧化成二氧化碳（CO2），然后測(cè)量CO2濃度，并將其轉(zhuǎn)換為碳濃度?？梢杂煤芏喾N實(shí)驗(yàn)室或在線技術(shù)來測(cè)量TOC。

創(chuàng)新的Sievers膜電導(dǎo)檢測(cè)法是極為可靠的TOC測(cè)量技術(shù)。該技術(shù)使用透氣膜，選擇性地僅使有機(jī)物氧化所產(chǎn)生的CO2通過薄膜。Sievers膜電導(dǎo)檢測(cè)法使酸、堿、鹵代物等化合物無法干擾對(duì)有機(jī)物氧化所產(chǎn)生的CO2的測(cè)量，從而提供測(cè)量靈敏度、選擇性、穩(wěn)定性、準(zhǔn)確性、精確性。

在用Sievers TOC分析儀來測(cè)試堿性清潔劑的回收率時(shí)，我們制備了多種濃度的儲(chǔ)備溶液，濃度范圍在300 ppb C至5 ppm C之間。這是按照ICH Q2（R1）的建議進(jìn)行的。ICH Q2（R1）強(qiáng)調(diào)，在方法驗(yàn)證時(shí)，應(yīng)分析至少5種濃度，以完成線性測(cè)試、確定準(zhǔn)確性和精確性。

表1用于準(zhǔn)確稀釋100 mL容量瓶中的儲(chǔ)備溶液。我們?cè)诜治鰰r(shí)建立了4組樣品瓶（共20個(gè)樣品瓶）。其中一組樣品瓶用于線性測(cè)試，其余樣品瓶用于確定百分比回收率、準(zhǔn)確性、批次內(nèi)精確性，如ICH Q2（R1）中所述。

然后分析制備好的清潔劑測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)液的TOC含量。對(duì)每個(gè)樣品瓶重復(fù)分析5次，舍棄第一次分析結(jié)果。計(jì)算平均值、標(biāo)準(zhǔn)偏差、百分比相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差（%RSD）。記錄用于制備儲(chǔ)備溶液的空白水的平均值，并將其代入最終結(jié)果的計(jì)算中。用空白值減去測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)液結(jié)果的水背景值。

線性測(cè)試結(jié)果

TOC空白=18 ppb C

百分比回收率

TOC空白=17 ppb C

此項(xiàng)研究的結(jié)果表明，可以用Sievers分析儀和TOC分析法來分析堿性清潔劑中的有機(jī)碳含量。分析結(jié)果顯示，此分析方法在0.3至5 ppm C范圍內(nèi)非常靈敏，且為線性分布，R²值為0.999。相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差小于3%，平均回收率在87%至101%之間，因此具有高的準(zhǔn)確性和精確性。檢測(cè)限基于對(duì)用于制備儲(chǔ)備溶液的試劑水的重復(fù)測(cè)量結(jié)果。分析物的檢測(cè)限確定為9.4 ppb C。

TOC分析法是檢測(cè)清潔劑和殘留產(chǎn)品的有效方法，用于監(jiān)測(cè)清潔工藝、降低總體風(fēng)險(xiǎn)。Sievers分析儀為您在清潔驗(yàn)證和確認(rèn)方面的所有需求，提供完整的TOC解決方案、服務(wù)與支持。