晶圓需要清洗，在半導(dǎo)體行業(yè)屬于必須的事實。那么，不少人好奇的是，晶圓清洗用純水可以嗎？對于這個問題，我們馬上來給大家一個答案：

晶圓清洗可以用純水，但通常使用的是超純水。因為如果使用純水估計會存在一些不穩(wěn)定因素：

雜質(zhì)影響

普通純水：雖然純水在一定程度上去除了大部分雜質(zhì)，但仍可能含有微量的離子、有機物、顆粒等雜質(zhì)。在晶圓清洗中，即使是微量的雜質(zhì)也可能對晶圓的質(zhì)量和性能產(chǎn)生不良影響，例如導(dǎo)致電路短路、漏電等問題。

超純水：超純水是經(jīng)過深度凈化處理的水，其純度高，幾乎不含有除了氫原子和氧原子之外的任何細菌、有機物、無機物、礦物質(zhì)、二噁英等雜質(zhì)。使用超純水清洗晶圓可以減少雜質(zhì)對晶圓的影響，保證晶圓的高質(zhì)量和高性能。

生產(chǎn)效率

干燥速度：超純水具有快速蒸發(fā)的特點，能夠使晶圓更快地干燥和冷卻，從而縮短生產(chǎn)周期，提高生產(chǎn)效率。相比之下，普通純水的蒸發(fā)速度較慢，會延長晶圓的干燥時間，降低生產(chǎn)效率。

工藝穩(wěn)定性：超純水中的溶解氣體、離子濃度等參數(shù)可以得到精確控制，這有助于保持清洗工藝的穩(wěn)定性。而普通純水中的這些參數(shù)可能會有一定的波動，影響清洗效果和工藝的穩(wěn)定性。

成本因素

設(shè)備投資：要獲得超純水，需要配備專門的超純水設(shè)備，如雙級反滲透系統(tǒng)、EDI 模塊等，設(shè)備的投資成本較高。

運行維護：超純水設(shè)備的運行和維護也需要一定的費用，包括更換濾芯、膜組件等耗材，以及定期的檢測和維護工作。不過，從長遠來看，使用超純水清洗晶圓可以提高產(chǎn)品的質(zhì)量，減少因質(zhì)量問題導(dǎo)致的廢品率，從而降低生產(chǎn)成本。