DLS動態(tài)光散射技術是非常成熟的N3表征技術，可用于測量納米體系混懸液的粒度及粒度分布。穩(wěn)定的激光光源照射布朗運動的納米顆粒，將致使散射光強發(fā)生波動，光電二極管檢測器獲得這些波動后，通過斯托克斯-愛因斯坦方程可得出粒度信息。DLS只需少量樣品即可完成分析，快速、精確、重復性好，是目前應用N3粒度測量方法。Vasco Kin原位納米粒度監(jiān)測儀以廣為熟知的DLS動態(tài)光散射技術為基石,集成了穩(wěn)定的光學單元、靈敏的光電二極管檢測器和靈活的非浸入式探頭,結合專用的分析軟件和數(shù)學模型，是一款針對各類型納米體系中的顆粒尺寸原位監(jiān)測系統(tǒng)。

與傳統(tǒng)DLS相比，Vasco Kin原位納米粒度監(jiān)測儀顯著增大了樣品濃度范圍和粒度的測量范圍。Vasco Kin原位納米粒度監(jiān)測儀不但保持了傳統(tǒng)DLS動態(tài)光散射儀器的高靈敏度和寬適應性，還開創(chuàng)性地采用了非浸入式遠程探頭，將DLS技術帶入原位過程監(jiān)測的廣泛應用場景，并增加了創(chuàng)新的時間關聯(lián)功能。