擴散氧化退火爐是一種用于半導體器件制造的設備,其主要作用是在高溫下進行氧化和退火等處理,以改善半導體器件的性能。
在擴散氧化退火爐中,半導體器件通過輸送系統(tǒng)進入爐體中,在高溫和特定氣氛下進行處理。這些處理包括氧化、退火、摻雜等多個過程,可以改善半導體器件的性能和可靠性。
二、 爐體中的鎢絲
爐體中的鎢絲是擴散氧化退火爐的一個關鍵組成部分。在進行高溫處理時,鎢絲作為熱源,提供必要的能量以確保處理溫度的均勻性和一致性。
此外,鎢絲還可以起到調(diào)控氣氛的作用。在處理過程中,通過控制氣氛中的成分和壓力,可以對處理過程進行精確的控制和調(diào)整。鎢絲作為爐體中的一個組成部分,需要具備良好的耐高溫性和穩(wěn)定性,以確保處理的精度和可靠性。
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