不管是化工反應(yīng)釜還是生物反應(yīng)釜、抑或是生物換熱器，不銹鋼、鈦、鎳制容器內(nèi)部很多時(shí)候都是有拋光要求的。

常見的反應(yīng)釜內(nèi)部拋光要求是0.8μm，0.4μm，0.2μm。

說(shuō)明下，拋光等級(jí)可以通過(guò)粗糙度儀進(jìn)行檢測(cè)。

典型高粘度核心反應(yīng)設(shè)備，比如聚合反應(yīng)釜、發(fā)酵罐，可能對(duì)拋光要求會(huì)高一點(diǎn)。

低粘度介質(zhì)（﹤1000CP）

中粘度介質(zhì)（1000～10000CP）

高粘度介質(zhì)（﹥10000CP）

粘度這個(gè)東西怎么理解呢？舉個(gè)形象的例子，跟我們平時(shí)喝紅酒掛壁的感覺(jué)一樣。再拿具體數(shù)值說(shuō)明下，自來(lái)水的粘度是1CP，粘度值很低，酸奶粘度比牛奶會(huì)高50多倍，止咳糖漿更高。

粘度值決定了攪拌槳葉形式的和攪拌功率的選擇。

衛(wèi)生和食品級(jí)反應(yīng)釜和生物換熱器，能夠有效的清潔，降低細(xì)菌的生產(chǎn)及其它污染物的風(fēng)險(xiǎn)。容器、管口、換熱管、攪拌軸及漿葉等與介質(zhì)接觸的表面粗糙度 Ra ≤ 0.4μm；裸露的表面拋光Ra ≤ 0.8μm，并做拉絲處理。

機(jī)械拋光

機(jī)械拋光是指在高速旋轉(zhuǎn)的黏有拋光膏的拋光輪上機(jī)械消除不銹鋼表面凹凸不平而獲得光亮表面的加工方式。拋光輪根據(jù)其制成布料種類的不同，用來(lái)區(qū)分其粒度級(jí)別。

機(jī)械拋光不是人工拋光，人工拋光是人在動(dòng)，機(jī)械拋光是工件在動(dòng)。

隨著不銹鋼冷軋工藝技術(shù)的提高，國(guó)內(nèi)能穩(wěn)定生產(chǎn)出表面粗糙度極小的 BA 表面，當(dāng)用戶選擇 BA或2B不銹鋼進(jìn)行鏡面拋光操作，不再需要粗拋工序。

區(qū)分機(jī)械拋光的就是人工拋光，人工拋光勉強(qiáng)能達(dá)到的極限是0.4μm。

電解拋光

電解拋光，也叫電化學(xué)拋光，是利用陽(yáng)極在電解池中所產(chǎn)生的電化學(xué)溶解現(xiàn)象，使陽(yáng)極上的微觀凸起部分發(fā)生選擇性溶解，形成平滑表面的方法。

電解拋光時(shí)，樣品作為陽(yáng)極，陰極選擇不溶性金屬，在兩極之間加上電壓后，逐漸增大電壓水平可以得到電解拋光的電壓-電流特性曲線。

電解拋光是以被拋光工件作為陽(yáng)極，不溶性金屬作為陰極，兩電極同時(shí)浸入電解池中通以直流電而產(chǎn)生有選擇性的陽(yáng)極溶解過(guò)程。這正好與電鍍過(guò)程相反。

通過(guò)電拋，去除金屬表面的尖刺與平滑凹處，可以改善表面形態(tài)及結(jié)構(gòu)，形成一層封閉的氧化鉻膜，提高管道的抗腐蝕性。一般在做電拋前都先做機(jī)械拋光(機(jī)械拋光必需是研磨拋光)，這樣才能使產(chǎn)品表面更光滑，杜絕死角。

電解拋光工藝流程：酸洗→純水洗→干燥→電解拋光→純水洗→中和→純水洗→干燥。

光亮退火

所謂光亮退火是在保護(hù)氣氛或真空中進(jìn)行退火，以防止氧化，保持表面光亮的退火工藝。

不銹鋼光亮退火工藝的目的和要求如下：消除加工硬化獲取滿意的金相組織，光亮退火爐主要用來(lái)進(jìn)行不銹鋼在保護(hù)氣氛下的成品熱處理。當(dāng)使用性能要求不同時(shí)，對(duì)光亮退火后金相組織的要求就不同，光亮熱處理的工藝也不同。

材料標(biāo)準(zhǔn)中有關(guān)于2B板和光亮退火管（BA）的要求，可能很多人沒(méi)有細(xì)看標(biāo)準(zhǔn)，對(duì)這個(gè)名詞都是第一次聽說(shuō)。

BA管是指經(jīng)光亮退火處理工藝處理的不銹鋼管道，廣泛應(yīng)用于石油化工、醫(yī)藥食品