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超高真空多腔室物理氣相沉積鍍膜系統(tǒng)
- 公司名稱(chēng) 科睿設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/8/26 16:31:57
- 訪問(wèn)次數(shù) 2512
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光刻機(jī),鍍膜機(jī),磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開(kāi)爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測(cè)量),氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測(cè)試系統(tǒng)
超高真空多腔室物理氣相沉積鍍膜系統(tǒng)
該系統(tǒng)由全球?qū)I(yè)的沉積設(shè)備商制造,配置多種沉積方式(預(yù)留各種功能接口),高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.
目前該系統(tǒng)的超高真空條件沉積模式(僅用機(jī)械泵+分子泵,極限真空可達(dá)5X10E-10Torr)。多種組合沉積模式,同一腔體實(shí)現(xiàn)多種功能沉積方式,沉積源模式有:
磁控濺射源
電子束蒸發(fā)源
熱蒸發(fā)源
超高真空多腔室物理氣相沉積鍍膜系統(tǒng)
該系統(tǒng)高度靈活,軟件操作方便,專(zhuān)業(yè)為研究機(jī)構(gòu)沉積超純度薄膜,是真正的超高真空沉積系統(tǒng)。
超高真空多腔室物理氣相沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù):
極限真空:<5x 10E-10 torr(經(jīng)過(guò)24小時(shí)烘烤冷卻后);
鍍膜均勻度:<3%
樣品傳送: 便捷安放上置襯底
機(jī)柜: 占用空間小結(jié)構(gòu);
樣品臺(tái)工作: 旋轉(zhuǎn), 加熱, 加載偏壓;
樣品操作: 預(yù)抽真空室;
樣品尺寸: 1”、 2”、 3”、 4” 、8”、12”等;
膜厚監(jiān)控: 石英晶體微天平, 橢偏儀;
烘烤: 內(nèi)置加熱或外置保溫加熱;
簡(jiǎn)單方便 的全自動(dòng)軟件操作:全自動(dòng)抽取真空并且程序自動(dòng)運(yùn)行。