脈沖激光外延制備鍍膜系統(tǒng)
- 公司名稱 科睿設備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產地
- 廠商性質 代理商
- 更新時間 2024/8/23 14:43:28
- 訪問次數(shù) 2834
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光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測試系統(tǒng)
產地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
---|---|---|---|
應用領域 | 能源,電子,電氣 |
脈沖激光外延制備鍍膜系統(tǒng)
(PLD MBE)
憑借著優(yōu)異的性能, PVD公司生產的脈沖激光沉積分子束外延系統(tǒng)在國內外擁有較多用戶,為眾多老師開啟薄膜外延制備的新篇章。
PVD公司是美國主要制造商,是一家專業(yè)從事脈沖激光沉積分子束外延(PLD MBE)和超高真空薄膜沉積系統(tǒng)及組件的設計和制造的公司,提供超高真空薄膜沉積系統(tǒng),應用于分子束外延、UHV濺射和脈沖激光沉積。產品主要集中在小型研究開發(fā)系統(tǒng),其應用主要包括:
用分子束外延進行半導體材料、ZnO、GaN、SiGe和金屬/氧化物外延生長;
UHV磁控濺射磁性薄膜;
脈沖激光沉積超導薄膜、氧化物和陶瓷材料。
脈沖激光外延制備鍍膜系統(tǒng)主要配置:
主腔室,樣品傳輸腔,1100度加熱系統(tǒng),樣品旋轉,PLD靶材操控器及光路,K-cell熱蒸發(fā)源,電子束蒸發(fā)源,射頻RF離子源。
應用主要包括:
分子束外延系統(tǒng)(MBE);
GaAs、InP和GaSb外延;
HgCdTe外延;
GaN、InN和AlN外延;
Ⅱ-Ⅵ族外延;
SiGe外延;
Si/金屬/氧化物外延;
超高真空物理氣相沉積(PVD)系統(tǒng);
磁控濺射系統(tǒng);
脈沖激光沉積(PLD)系統(tǒng);
電子束蒸發(fā)系統(tǒng);
離子束沉積系統(tǒng);
熱蒸發(fā)系統(tǒng)。
PVD公司已經(jīng)在范圍內安裝了超過100套的超高真空系統(tǒng)。絕大部分的產品都是針對用戶定制設計復雜的沉積系統(tǒng)。在標準系統(tǒng)制造業(yè)中有著深厚的為用戶定制設計的背景,在用戶中具有很好的聲譽。許多的標準系統(tǒng)初都是起源于針對某些客戶對沉積過程特殊需求的解決方案,與廣大的中國用戶開展更為廣泛的交流與合作,為廣大的中國用戶提供PLD MBE和超高真空薄膜沉積系統(tǒng)制造商的產品和服務。