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磁控濺射鍍膜機(jī)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2024/8/26 14:53:38
  • 訪問次數(shù) 5563

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科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國(guó)外高科技儀器廠家在中國(guó)地區(qū)的代理??祁9疽回灡小赫\(chéng)信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)用戶提供儀器、設(shè)備,周到的技術(shù)、服務(wù)和*的整體解決方案。在科技日新月異、國(guó)力飛速發(fā)展的中國(guó),納米科學(xué)研究、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長(zhǎng)和表征、表面材料物性分析、生物藥物開發(fā)、有機(jī)高分子合成等等領(lǐng)域,都需要與歐美發(fā)達(dá)國(guó)家*接軌的儀器設(shè)備平臺(tái)來(lái)實(shí)現(xiàn)。科睿設(shè)備有限公司有幸成長(zhǎng)在這個(gè)火熱的年代,我們?cè)敢饣癁橐蛔鶚蛄?,見證中國(guó)科技水平的提升,與中國(guó)科技共同飛速成長(zhǎng)。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國(guó)香港,在中國(guó)上海設(shè)立了分公司,在國(guó)內(nèi)多個(gè)城市設(shè)立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務(wù)。2010年,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉(cāng)庫(kù)及維修中心,同時(shí)提供在大陸的各項(xiàng)技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員,并且都曾到國(guó)外廠家進(jìn)行了專門的培訓(xùn)。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便。我們承諾24小時(shí)電話響應(yīng),72小時(shí)內(nèi)趕到現(xiàn)場(chǎng)維修。以利于更好、更快的為中國(guó)大陸服務(wù)!
      因?yàn)樾湃?所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國(guó)內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),主要用戶包括:中科院物理所,中科院半導(dǎo)體所,中科院大連化學(xué)物理研究所,國(guó)家納米中心,上海納米中心,北京大學(xué),清華大學(xué),中國(guó)科技大學(xué),南京大學(xué),復(fù)旦大學(xué),上海交通大學(xué),華東理工大學(xué),浙江大學(xué),中山大學(xué),西安交通大學(xué),四川大學(xué),中國(guó)工程物理研究院,香港大學(xué),香港城市大學(xué),香港中文大學(xué),香港科技大學(xué)等。



光刻機(jī),鍍膜機(jī),磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測(cè)量),氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測(cè)試系統(tǒng)

價(jià)格區(qū)間 面議 應(yīng)用領(lǐng)域 電子,電氣,綜合

磁控濺射鍍膜機(jī)儀器介紹:
美國(guó)專業(yè)的制造商,擁有20多年豐富的經(jīng)驗(yàn)在:電子束蒸發(fā)設(shè)備、磁控濺射設(shè)備、熱蒸發(fā)設(shè)備等。有以下功能模式:
electron beam evaporation, 電子束蒸發(fā);
resistive evaporation,熱阻蒸發(fā);
ion beam assisted deposition (IBAD), 離子束輔助蒸發(fā)鍍膜;
effusion cell,瀉流源。


磁控濺射鍍膜機(jī)技術(shù)參數(shù):
Vacuum Chamber: 304不銹鋼圓柱形腔體,標(biāo)準(zhǔn)直徑有18英寸和24英寸 –   scaled to match the specific application;
Pumping: 分子泵或冷凝泵;
Load Lock: 手動(dòng)傳片或自動(dòng)傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm大的圓片,高真空背景傳遞;
Process Control: PC / PLC自動(dòng)控制界面,菜單控制,數(shù)據(jù)獲取和遠(yuǎn)程控制 ;
In-Situ Monitoring & Control: QCM膜厚監(jiān)控,光學(xué)膜厚監(jiān)控;
RGA殘余氣體分析;
Substrate Fixture: 單片,多片,行星式襯底夾具;
Substrate Holders: 可加熱,冷卻,偏壓,旋轉(zhuǎn);
Ion Source: 襯底預(yù)清洗,納米表面改性。

Deposition Techniques:
Magnetron Sputtering  RF, DC, or Pulsed-DC,具有射頻濺射,直流濺射,脈沖直流濺射;
Electron Beam Evaporation,電子束蒸發(fā);
Thermal Evaporation,熱蒸發(fā);
Organic Evaporation for OLED/ PLED and Organic Electronics,有機(jī)蒸發(fā)(用于OLED/ PLED和有機(jī)電子);
Glancing Angle Depostion (GLAD),傾斜角沉積
Cathodic Arc Plasma Deposition,陰極等離子體輔助沉積。




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