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customized 化學(xué)氣相沉積MOCVD
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 愛思強(qiáng)
- 型號(hào) customized
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/9/6 14:38:03
- 訪問次數(shù) 758
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1. 產(chǎn)品概述
MOCVD設(shè)備是通過將反應(yīng)物質(zhì)以有機(jī)金屬化合物氣體分子的形式，經(jīng)載帶氣體送到反應(yīng)室，進(jìn)行熱分解反應(yīng)而生長(zhǎng)出薄膜材料。應(yīng)用方向：Ga2O3,GaN, InP, GaAs, InSb, GaInNAs, II-VI等。
2. 設(shè)備用途/原理
應(yīng)用方向：Ga2O3,GaN, InP, GaAs, InSb, GaInNAs, II-VI等；
MOCVD設(shè)備是通過將反應(yīng)物質(zhì)以有機(jī)金屬化合物氣體分子的形式，經(jīng)載帶氣體送到反應(yīng)室，進(jìn)行熱分解反應(yīng)而生長(zhǎng)出薄膜材料；
加熱系統(tǒng)：采用鎢絲加熱，三溫區(qū)控制，最高溫度至1400℃；
反應(yīng)腔室內(nèi)托盤與噴淋頭間距可調(diào)（范圍覆蓋5 mm至25 mm）；
工藝過程中，具有實(shí)時(shí)晶圓表面溫度和晶圓翹曲度監(jiān)測(cè)功能；
搭載溫度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，可實(shí)時(shí)掃描晶圓溫度mapping圖。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
從研發(fā)到大規(guī)模生產(chǎn)；
襯底尺寸：3x2 inch、1x4 inch、1x3 inch、1x2 inch；
通過載波交換實(shí)現(xiàn)：6 x 2 inch、3 x 3 inch、1 x 6 inch；
Ga2O3薄膜生長(zhǎng)速率：>3um/h；
Ga2O3薄膜表面粗糙度：5umx5um范圍由AFM在Ga2O3襯底上測(cè)量 ≤1.0 nm。
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