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光刻膠
主要由丙二醇甲醚醋酸酯、甲酚 - 甲醛酚醛樹脂（CAS-NO.9016-83-5，濃度 21%）、6 - 重氮 - 5,6 - 二氫 - 5 - 氧代 - 1 ...
型號： RZJ-304 所在地：蘇州市參考價：面議更新時間：2024/12/9 17:34:59 對比

光刻膠正性光刻膠
CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機
CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客戶而設計的等離子體表面處理設備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數(shù)生產(chǎn)場景。適用于等離子清洗，活化以及刻...
型號： CPC15/35/... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/10 15:05:09 對比

生產(chǎn)型等離子清洗機等離子清洗機 CIF 等離子清洗機
原子層沉積研究設備
Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學術(shù)研究和企業(yè)研發(fā)而設計。Beneq TFS 200 經(jīng)過專門設計，可最大限度地減少多用戶...
型號： TFS 200 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2024/9/10 14:46:09 對比

原子層沉積研究平臺
掃描式光刻機
1、Nikon S207D掃描式光刻機光源波長248nm分辨率優(yōu)于0.11µm主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領(lǐng)域...
型號： Nikon S20... 所在地：日本參考價：面議更新時間：2024/9/7 10:06:14 對比

Nikon S207D掃描式光刻機掃描式光刻機光刻機
掃描式光刻機
1、Nikon S208D掃描式光刻機光源波長248nm分辨率優(yōu)于0.11µm主要用于8寸及12寸生產(chǎn)線廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領(lǐng)域...
型號： Nikon S20... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/7 9:56:55 對比

Nikon S208D掃描式光刻機掃描式光刻機光刻機
深硅刻蝕機
深硅刻蝕機PSE V300主要用于12英寸深硅刻蝕，同時兼具Bosch/Non-Bosch工藝，實現(xiàn)多工藝領(lǐng)域覆蓋。該機臺針對Bosch循環(huán)工藝方式采用專業(yè)先進...
型號： PSE V300 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 21:53:24 對比

深硅刻蝕機 PSE V300
化學機械拋光機CMP
化學機械拋光機CMP簡介：1. 該化學機械拋光機可用于各類半導體集成電路、氧化物、金屬、STI、SOI等產(chǎn)品的CMP平坦化拋光。通過更換拋光頭可兼容4、6、8...
型號： customize... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 17:04:26 對比

化學機械拋光機拋光機機械拋光機 MCF
劃片機
精密劃片機，劃片機簡介：半導體晶圓、集成電路、QFN、發(fā)光二極管、LED芯片、太陽能電池、電子基片等的劃切，適用于包括硅、石英、陶瓷、氧化鋁、氧化鐵、砷化鎵、鈮...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:50:42 對比

劃片機精密劃片機激光劃片機
CMP后清洗機
CMP后清洗機簡介：該系列設備是晶圓CMP后的專用清洗設備，有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線式等不同結(jié)構(gòu)，以適用不同應用場景，其中連線式設備加配全自動上下片系統(tǒng)。該系列...
型號： customize... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:48:45 對比

CMP后清洗機干法清洗設備干法工藝設備 G＆P
自動光學檢查系統(tǒng)
自動光學檢查系統(tǒng) 簡介：全自動AOI系統(tǒng)可獲取目標表面高分辨率圖像，并根據(jù)用戶標準執(zhí)行光學檢測。例如，激光二極管的端面檢查，鍍膜的質(zhì)量監(jiān)控，表面檢查，半導體芯片...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:48:29 對比

光學檢查系統(tǒng)光學自動檢測設備光學檢測
回流焊爐
回流焊爐簡介：1. 應用領(lǐng)域：無助焊劑焊接；倒裝芯片焊接；鍵合；Bump回流焊接；微電子封裝；功率器件焊接；晶圓熱處理；工藝研發(fā)；質(zhì)量控制2. 加熱區(qū)域：4、6...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:42:10 對比

回流焊爐
減薄機
減薄機簡介：1. 可根據(jù)客戶需求定制化各類工作臺，滿足各類半導體材料的研削薄化工藝2. 最大晶圓尺寸：8英寸3. 砂輪規(guī)格：Ø203(OD)mm4....
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:35:54 對比

半導體組裝與封裝減薄機夢啟
共晶爐
德國UNITEMP真空共晶爐、燒結(jié)爐，緊湊臺式設計，可在氮氣/甲酸等氛圍操作，廣泛用于激光、射頻電路、功率器件等微電子光電子行業(yè)的晶粒貼裝，以及金-硅合金，密集...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:34:03 對比

共晶爐燒結(jié)爐
半導體研磨拋光機
半導體研磨拋光機是一款操作簡單的桌面型單面拋光設備，可搭配銅盤、錫盤、玻璃盤、不銹鋼盤等，配合不同類型的拋光液，適用于各種半導體材料的研磨拋光，滿足科研院校、企...
型號： customize... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:28:32 對比

半導體研磨拋光機半導體研磨機拋光機化學機械拋光機
掃描電鏡SEM
掃描電鏡SEM簡介：FE-SEM獲得的圖像分辨率高，信息豐富，樣品處理相對簡單，并且它可以觀察、測量并分析樣品的細微結(jié)構(gòu)，因此被廣泛應用于納米技術(shù)、半導體、電子...
型號：所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:26:49 對比

掃描電鏡SEM 半導體測量
透射電鏡TEM
透射電鏡TEM 介紹：1. 配備了高靈敏度sCMOS相機、超廣視野的蒙太奇系統(tǒng)以及光學顯微鏡圖像的聯(lián)動功能，是一款新型的高通量、高分辨率的120kV透射電子顯...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:24:26 對比

透射電鏡TEM
聚焦離子束系統(tǒng)FIB
聚焦離子束系統(tǒng)FIB是將離子源產(chǎn)生的離子束經(jīng)過離子槍加速，聚焦后作用于樣品表面，應用于：產(chǎn)生二次電子信號取得電子像，此功能與SEM相似，用強電流離子束對表面原子...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:21:07 對比

離子束系統(tǒng)
中央供藥系統(tǒng)
中央供藥系統(tǒng)簡介：1.用于廠內(nèi)供藥，通過該系統(tǒng)可以按照設定的配比，將特定的藥液通過相應的管路供應到制程中。2.該系統(tǒng)供藥配比精確，配方可根據(jù)客戶需要進行編輯確認...
型號： customize... 所在地：蘇州市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:19:03 對比

中央供藥系統(tǒng)供藥系統(tǒng)智程
晶圓甩干機
1.是高潔凈度的沖洗旋干設備。主要系應用于硅晶圓、掩模板、太陽能電池等材料的高潔凈度沖洗旋干。設備具有單工作室、雙工作室兩種結(jié)構(gòu)。2.產(chǎn)品類型：有立式單腔，雙腔...
型號： customize... 所在地：無錫市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:13:48 對比

晶圓甩干機甩干機沖洗旋干設備干法清洗泉一
光學輪廓儀
光學輪廓儀是一款用于對各種精密器件及材料表面進行亞納米級測量的檢測儀器。它是以白光干涉技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對器件表面進行非接觸式掃...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:11:11 對比

光學輪廓儀輪廓儀

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