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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 12英寸特種金屬膜層刻蝕設備

    LMEC-300™ 是魯汶儀器針對特種金屬膜層刻蝕而推出的 12 英寸集成設備,應用于新興存儲器件的制備。此類器件的核心功能單元含有成分復雜的金屬疊...
    型號: LMEC-300 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 16:45:53 對比
  • 12英寸離子束塑形(IBS) 設備

    Pangea®A系列常規(guī)IBS設備由離子源柵極引出正離子并加速,中性束流撞擊樣品表面,濺射形成刻蝕圖像。由于等離子體的產生遠離晶圓空間,起輝不受非揮發(fā)...
    型號: Pangea... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 16:43:05 對比
  • 8英寸離子束塑形(IBS)設備

    Lorem® A 系列常規(guī) IBS 設備,由離子源柵極引出正離子并加速,中性束流撞擊樣品表面,濺射形成刻蝕圖像。由于等離子體的產生遠離晶圓空間,起輝不...
    型號: Lorem... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 16:39:49 對比
  • 8英寸離子束沉積(IBD)設備

    Ganister™ A離子束沉積設備,是針對低溫、高致密、高均勻性薄膜沉積工藝所開發(fā)的專用產品,在硬盤磁頭、硬磁偏置層、布拉格反射鏡等器件的制備中有...
    型號: Ganister&... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 16:37:11 對比
  • 12英寸硬掩膜刻蝕設備

    Herent® Chimera® A 金屬硬掩膜刻蝕設備,為針對 12 英寸 IC 產業(yè)的后道銅互連中氮化鈦(TiN)金屬硬掩膜刻蝕(met...
    型號: Herent... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 16:34:09 對比
  • 12英寸金屬刻蝕設備

    Herent® Chimera® M 金屬刻蝕設備,為針對12英寸IC產業(yè)0.18微米以下后道高密度鋁導線互連工藝所開發(fā)的專用產品, 同時也...
    型號: Herent... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 16:29:23 對比
  • 8英寸硅刻蝕設備

    Tebaank® Pishow® P 硅刻蝕設備是面向8英寸集成電路制造的量產型設備設備由電感耦合等離子體刻蝕腔(ICP etch cham...
    型號: Tebaank&#... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 16:20:32 對比
  • 8英寸金屬刻蝕設備

    Kessel™ Pishow® M 金屬刻蝕設備為可用于8英寸的IC產線鋁金屬工藝的量產型機臺,基于自有開發(fā)的優(yōu)化設計,保證了優(yōu)異的刻蝕均...
    型號: Kessel... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 16:13:45 對比
  • 8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備

    詳細介紹ICP是一種加工微納結構的8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備。具有刻蝕快、選擇比高、各項異性高、刻蝕損傷小、均勻性好、斷面輪廓可控性高、刻蝕表面平整度高等優(yōu)...
    型號: Pishow... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 16:09:34 對比
  • 8英寸電感耦合等離子體-深硅刻蝕設備

    Pishow® D 系列深刻蝕設備,是針對8英寸~6英寸產線或科研深硅刻蝕工藝的專用設備,擁有自主開發(fā)的優(yōu)化設計,保證了優(yōu)異的刻蝕精度控制和損傷控制。...
    型號: Pishow... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 15:58:56 對比
  • 電容耦合等離子體刻蝕(CCP)設備

    詳細介紹CCP腔室適用于制造微納結構的等離子刻蝕技術。在反應離子刻蝕過程中,等離子體中會包含大量的活性粒子,與表面原子產生化學反應,生成可揮發(fā)產物后,隨真空抽氣...
    型號: Haasrode&... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 15:45:18 對比
  • 8英寸電感耦合等離子體化學氣相沉積設備

    Shale® C系列電感耦合等離子體化學氣相沉積設備(ICP-CVD),通過電感耦合(ICP)產生高密度等離子體,并通過電容耦合(CCP)產生偏壓,可...
    型號: Shale... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 15:35:04 對比
  • 8英寸等離子體增強化學氣相沉積設備

    詳細介紹Shale® A系列等離子體增強化學氣相沉積設備(PECVD),通過平行電容板電場放電產生等離子體,可以在400℃及以下沉積比較致密、均勻性較...
    型號: Shale... 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 15:30:52 對比
  • 氣相分解金屬沾污收集(VPD)設備

    詳細介紹Seehund® A型氣相分解金屬沾污收集設備(VPD)是專為集成電路制造、大晶圓生產及再生、先導工藝研發(fā)等行業(yè)提供金屬沾污控制方案的產品。由...
    型號: Seehund&#... 所在地:徐州市 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 15:19:49 對比

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