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深圳市矢量科學儀器有限公司

當前位置:深圳市矢量科學儀器有限公司>>半導體前道工藝設備>>1 光刻設備>> CPC15/35/80/120/150CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機

CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號CPC15/35/80/120/150

品牌CIF

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地北京市

更新時間:2024-09-10 15:05:09瀏覽次數(shù):1033次

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CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客戶而設計的等離子體表面處理設備,配置豐富,且真空腔體里可分層,適合大多數(shù)生產(chǎn)場景。適用于等離子清洗,活化以及刻蝕等多種應用,設備可在嚴苛環(huán)境下穩(wěn)定運行,產(chǎn)品性能穩(wěn)定,樣品處理重復性、一致性好。

一、CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機 產(chǎn)品介紹

CIF推出的CPC系列生產(chǎn)型等離子清洗機是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客戶而設計的等離子體表面處理設備,配置豐富,且真空腔體里可分層,適合大多數(shù)生產(chǎn)場景。適用于等離子清洗,活化以及刻蝕等多種應用,設備可在嚴苛環(huán)境下穩(wěn)定運行,產(chǎn)品性能穩(wěn)定,樣品處理重復性、一致性好。

二、CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機 產(chǎn)品特點

1. 7寸彩色觸摸屏互動操作界面,圖形化用戶操作界面顯示,自動監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài),0~99個配方程序,可存儲、輸出、追溯工藝數(shù)據(jù),機器運行、停止提示。

2. PLC工控機控制整個清洗過程,手動、自動兩種工作模式。

3. 采用質(zhì)量流量計,氣體流量控制更準確。標配雙路氣體輸送系統(tǒng),可選多氣路氣體輸送系統(tǒng),氣體分配均勻。可輸入氧氣、氬氣、氮氣、四氟化碳、氫氣或混合氣體等氣體。

4. 采用花灑式多孔進氣方式,改變傳統(tǒng)等離子清洗機單孔進氣不均勻問題。

5. HEPA高效過濾,氣體返填吹掃,防止二次污染。

6. 316不銹鋼真空倉,潔凈無污染。

7. 全真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì)。

8. 處理高效均勻,效率高,工藝重復性好。

9. 合理的結構設計,設備占用空間小。

10. 可處理各種材質(zhì)、形狀、尺寸樣品。

11. 樣品處理溫度低,無熱損傷和熱氧化。

12. 使用成本低、耗損小。

13. 產(chǎn)品性能穩(wěn)定,安裝與維護,簡便方便。

14. 安全保護,倉門打開,自動關閉電源。

三、技術參數(shù)

型號

CPC15

CPC35

CPC80

CPC120

CPC150

艙體尺寸

W240xH240xD260mm

W320xH320xD350mm

W420xH400xD500mm

W500xH500xD450mm

W500xH500xD600mm

艙體容積

15L

35L

80L

120L

150L

有效尺寸

W210xD245mm

W300xD335mm

W400xD490mm

W500xxD440mm

W500xxD590mm

電極分布

2層

3-4層

6層

8-10層

10-15層

射頻電源

13.56MHz, 0-300W

13.56MHz, 0-300W

13.56MHz,0-600W

13.56MHz,0-1000W

13.56MHz,0-1000W

匹配器

自動匹配器

激發(fā)方式

電容式

電 流

1.2A

時間設定

1-99分59秒

氣體穩(wěn)定時間

1分鐘

真空度

100pa以內(nèi)

控制系統(tǒng)

7寸PLC觸摸屏控制

工藝氣體

2氣路 MFC(可選裝3路)

真空泵

抽速約8m3/h

抽速16m3/h

抽速40m3/h

抽速60m3/h

抽速約60m3/h

電 源

AC220V 50-60Hz

AC220V 50-60Hz

AC380V 50-60Hz

AC380V 50-60Hz

AC380V 50-60Hz

備注:根據(jù)用戶要求,可選中頻電源40KHz,功率300-2000W。







有掩膜光刻機

1.手動、半自動、全自動有掩膜光刻機$r$n2.高分辨率掩模對準光刻,

無掩膜/激光直寫光刻機

無掩膜/激光直寫光刻機 參數(shù):1. 光源:375 nm、385 nm、

電子束光刻系統(tǒng)

電子束光刻系統(tǒng) 技術參數(shù):$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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