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光刻膠
主要由丙二醇甲醚醋酸酯、甲酚 - 甲醛酚醛樹(shù)脂（CAS-NO.9016-83-5，濃度 21%）、6 - 重氮 - 5,6 - 二氫 - 5 - 氧代 - 1 ...
型號(hào)： RZJ-304 所在地：蘇州市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/12/9 17:34:59 對(duì)比

光刻膠正性光刻膠
CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)
CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級(jí)客戶而設(shè)計(jì)的等離子體表面處理設(shè)備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數(shù)生產(chǎn)場(chǎng)景。適用于等離子清洗，活化以及刻...
型號(hào)： CPC15/35/... 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/10 15:05:09 對(duì)比

生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)等離子清洗機(jī)CIF 等離子清洗機(jī)
原子層沉積研究設(shè)備
Beneq TFS 200 是有史以來(lái)最靈活的原子層沉積研究平臺(tái)，專為學(xué)術(shù)研究和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計(jì)。Beneq TFS 200 經(jīng)過(guò)專門(mén)設(shè)計(jì)，可最大限度地減少多用戶...
型號(hào)： TFS 200 所在地：芬蘭參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/10 14:46:09 對(duì)比

原子層沉積研究平臺(tái)
深硅刻蝕機(jī)
深硅刻蝕機(jī)PSE V300主要用于12英寸深硅刻蝕，同時(shí)兼具Bosch/Non-Bosch工藝，實(shí)現(xiàn)多工藝領(lǐng)域覆蓋。該機(jī)臺(tái)針對(duì)Bosch循環(huán)工藝方式采用專業(yè)先進(jìn)...
型號(hào)： PSE V300 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 21:53:24 對(duì)比

深硅刻蝕機(jī)PSE V300
晶圓甩干機(jī)
1.是高潔凈度的沖洗旋干設(shè)備。主要系應(yīng)用于硅晶圓、掩模板、太陽(yáng)能電池等材料的高潔凈度沖洗旋干。設(shè)備具有單工作室、雙工作室兩種結(jié)構(gòu)。2.產(chǎn)品類型：有立式單腔，雙腔...
型號(hào)： customize... 所在地：無(wú)錫市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 16:13:48 對(duì)比

晶圓甩干機(jī)甩干機(jī)沖洗旋干設(shè)備干法清洗泉一
高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空反應(yīng)室、上蓋組件、熱絲架、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備...
型號(hào)：線列式PECVD 所在地：沈陽(yáng)市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:34:17 對(duì)比

化學(xué)氣相薄膜沉積
高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)
高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由3個(gè)真空沉積室（分別沉積P、I、N結(jié)）、1個(gè)進(jìn)樣室、1個(gè)中央傳輸室、平板式電極、基片加熱臺(tái)、工作氣路、傳送機(jī)械手、抽...
型號(hào)： Cluster P... 所在地：沈陽(yáng)市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:32:51 對(duì)比

化學(xué)氣相薄膜沉積
高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過(guò)渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部...
型號(hào)： EB700 所在地：沈陽(yáng)市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:25:25 對(duì)比

電子束蒸發(fā)鍍膜
緊湊型刻蝕設(shè)備
RIE-1C是用于半導(dǎo)體芯片故障分析的緊湊型刻蝕設(shè)備?？梢愿咝?、低損傷地去除鈍化膜。它操作簡(jiǎn)單，樣品放置后只需按一下按鈕就可以完成整個(gè)過(guò)程?？梢苑旁谧烂嫔希部?..
型號(hào)： RIE-1C 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:24:47 對(duì)比

緊湊型刻蝕機(jī)RIE-1C SAMCO
RIE等離子刻蝕設(shè)備
RIE-300NR是一種理想的RIE等離子刻蝕設(shè)備，適用于加工ø300mm晶圓和多晶圓（ø3“×12，ø4“×...
型號(hào)： RIE-300NR 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:19:00 對(duì)比

RIE等離子刻蝕設(shè)備 RIE-300NR SAMCO
反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
可為多種材料提供各向異性干法刻蝕工藝，兼容200mm以下所有尺寸的晶圓，快速更換到不同尺寸的晶圓工藝，電極的適用溫度范圍寬，-150°C至400...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:18:55 對(duì)比

離子刻蝕系統(tǒng)RIE 等離子刻蝕固體激光器 InP刻蝕石英刻蝕 OXFORD
RIE等離子刻蝕設(shè)備
RIE-200C RIE等離子刻蝕設(shè)備是在擁有豐富交貨業(yè)績(jī)的CCP RIE系統(tǒng) “RIE-10NR “的基礎(chǔ)上開(kāi)發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對(duì)Si、Poly...
型號(hào)： RIE-200C 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:14:14 對(duì)比

RIE等離子刻蝕設(shè)備 RIE-200C SAMCO
離子束刻蝕系統(tǒng)IBE
離子束刻蝕系統(tǒng)IBE 的靈活性、均勻性俱佳且應(yīng)用范圍廣。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項(xiàng)，包括直開(kāi)式、單襯底傳送模式和盒式對(duì)盒式模式。系統(tǒng)配置與實(shí)際應(yīng)用緊密協(xié)調(diào)，以...
型號(hào)： Ionfab 30... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:12:25 對(duì)比

離子束刻蝕系統(tǒng)IBE 刻蝕設(shè)備 OXFORD
深硅刻蝕系統(tǒng)DEEP SI ETCH
提供深硅蝕刻（DSiE）領(lǐng)域的MEMS，封裝和納米技術(shù)的廣泛應(yīng)用，從光滑側(cè)壁工藝到高刻蝕速率腔刻蝕、高深寬比工藝和錐形通孔刻蝕，不需要更換腔室硬件就可以實(shí)現(xiàn)。
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:05:06 對(duì)比

深硅刻蝕系統(tǒng)刻蝕設(shè)備刻蝕系統(tǒng)OXFORD
低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVD
低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVD 簡(jiǎn)介：1. 滿足石墨烯和碳納米管研究的高溫和快速冷卻要求2. 直徑200毫米的石英室3. 內(nèi)部石英管的設(shè)計(jì)便于拆卸和清洗4. 基...
型號(hào)： customize... 所在地：德國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:03:48 對(duì)比

化學(xué)氣相趁機(jī)系統(tǒng)薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
等離子體刻蝕設(shè)備
高密度等離子體刻蝕設(shè)備采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性。
型號(hào)： RIE-800iP 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:03:35 對(duì)比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-800iP SAMCO
噴涂膠機(jī)
在噴涂法中，噴嘴將要涂抹的溶液噴在晶圓上。經(jīng)過(guò)優(yōu)化后的晶圓上方噴嘴移動(dòng)路徑可以實(shí)現(xiàn)在襯底上均勻的涂層。噴涂所用的液體通常粘度極低，以確保形成細(xì)小的液滴
型號(hào)： AS8 所在地：德國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:03:11 對(duì)比

噴涂膠機(jī)涂膠顯影
RIE等離子刻蝕設(shè)備
RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能的全自動(dòng)RIE等離子刻蝕設(shè)備，它能滿足非腐蝕性氣體化學(xué)苛刻的工藝要求。計(jì)算機(jī)化的觸摸屏為參數(shù)控制和存儲(chǔ)提供了一個(gè)用戶友...
型號(hào)： RIE-10NR 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:55:21 對(duì)比

RIE等離子刻蝕設(shè)備 RIE-10NR SAMCO
納米壓印系統(tǒng)
納米壓印系統(tǒng) 簡(jiǎn)介：1. 兼容基底尺寸：直徑≤100mm2. 支持基底材料：硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等3. 納米壓印技術(shù)：旋涂膠基底高精度壓印&點(diǎn)膠自動(dòng)找平...
型號(hào)： GL6 R&... 所在地：青島市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:51:14 對(duì)比

納米壓印系統(tǒng)納米壓印設(shè)備
電子束光刻系統(tǒng)
電子束光刻系統(tǒng) 技術(shù)參數(shù)：1.最小線寬≤8nm光柵周期≤40nm2.50KV加速電壓下，寫(xiě)場(chǎng)可在0.5μm~500μm的范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào)3.肖特基熱場(chǎng)發(fā)射電子束源...
型號(hào)： eLINE Plu... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:43:42 對(duì)比

電子束曝光光刻機(jī)無(wú)掩模光刻

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