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當前位置：深圳市矢量科學儀器有限公司>>半導體前道工藝設備>>1 光刻設備>> UV Litho-ACA無掩膜/激光直寫光刻機
| 參 考 價: | 面議 |
產(chǎn)品型號UV Litho-ACA
品牌其他品牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所在地深圳市
更新時間：2024-09-06 14:14:13瀏覽次數(shù)：2137次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)1.產(chǎn)品概述：
利用紫外光源對紫外敏感的光刻膠進行空間 選擇性的曝光，進而將設計好電路版圖轉(zhuǎn)移到 硅片上形成集成電路，這一工藝就是紫外光刻 技術。光刻機的分辨率和套刻精度直接決定了 所制造的集成電路的集成度，也成為了評價光 刻設備品質(zhì)的關鍵指標。激光直寫設備具備很 高的靈活性，且可以達到較高的精度，但由于 是逐行掃描，曝光效率較低。托托科技的無掩 模版光刻設備基于空間光調(diào)制器（DMD/DLP） 的技術，實現(xiàn)了高速、高精度、高靈活性的紫外光刻。
2.產(chǎn)品參數(shù)：
光源：375 nm、385 nm、405 nm 激光器
線寬：0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm
光刻效率：可達到3000mm2/min@5μm
XY行程：55~205mm
樣品尺寸：最小3mm*3mm 最大8 inch
應用領域：生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光學元件、*進芯片封裝、光通訊芯片光刻
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| 評價時間 | 類別 | 詳細內(nèi)容 | 評價者 | IP地址 |
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