1. 產(chǎn)品概述

Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)

2. 設(shè)備用途/原理

Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，多種材料膜層工藝能力，低損傷，高深寬比填充能力，獨(dú)立工藝腔室，多可支持 6 個(gè)工藝模塊，優(yōu)異的溫度，顆粒控制能力，配置靈活、大產(chǎn)能、低運(yùn)營(yíng)成本。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

晶圓尺寸 6、8 英寸，適用材料 銀、鎢化鈦、金、鉑、鈦、氮化鈦、鋁、鉻等，適用工藝 倒裝工藝、金屬電等，適用域 新興應(yīng)用、科研、化合物半導(dǎo)體。物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)技術(shù)是指在真空條件下采用物理方法將材料源（固體或液體）表面氣化成氣態(tài)原子或分子，或部分電離成離子，并通過(guò)低壓氣體（或等離子體）過(guò)程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)， 物理氣相沉積是主要的表面處理技術(shù)之一。