1. 產(chǎn)品概述

Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，磁控濺射源和腔室結構的設計有效提高靶材利用率。

2. 設備用途/原理

Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，磁控濺射源和腔室結構的設計有效提高靶材利用率，靈活的腔室配置，針對先進封裝域優(yōu)化、穩(wěn)定的傳輸系統(tǒng)，兼容玻璃片、翹曲片、鍵合片等多種類型基片傳輸，穩(wěn)定并且低的Rc表現(xiàn)，良好的顆粒和應力控制能力，優(yōu)化的工藝流程帶來大產(chǎn)能表現(xiàn)，低運營成本。

3. 設備特點

晶圓尺寸 12英寸，適用材料 銅、鈦、氮化鈦、鉭、氮化鉭、鎢化鈦、金、鋁等，適用工藝 電、先進封裝中的UBM/RDL，適用域 新興應用、先進封裝。