化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設(shè)備>化學(xué)氣相沉積設(shè)備>PD-2201LC 化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 設(shè)備
PD-2201LC 化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 設(shè)備
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 SAMCO
- 型號(hào) PD-2201LC
- 產(chǎn)地 日本
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/9/6 10:16:09
- 訪問次數(shù) 172
聯(lián)系方式：謝澤雨 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!
1. 產(chǎn)品概述
PD-2201LC 是一種盒式裝載等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 設(shè)備，能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。該系統(tǒng)在節(jié)省空間的提下提供了PECVD的所有標(biāo)準(zhǔn)功能?？稍谥睆?20毫米的區(qū)域內(nèi)沉積具有優(yōu)異厚度均勻性和應(yīng)力控制的薄膜，并具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和可重復(fù)性。用戶友好的觸摸屏界面，用于參數(shù)控制和配方存儲(chǔ)。該系統(tǒng)是大規(guī)模生產(chǎn)用薄膜沉積的理想選擇，具有優(yōu)異的重復(fù)性。
2. 設(shè)備用途/原理
SiH4-SiNx、SiH4-SiO2、液體驅(qū)體(SN-2)SiNx、TEOS-SiO2。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
大加工范圍：?220 mm (?3" x 5, ?4" x 3, ?8" x 1)。優(yōu)異的均勻性和應(yīng)力控制。工藝穩(wěn)定性和可重復(fù)性。堅(jiān)固的系統(tǒng)，低的運(yùn)行/維護(hù)成本。用戶友好的觸摸屏界面，用于參數(shù)控制和配方存儲(chǔ)。PD-2201LC設(shè)計(jì)時(shí)尚、節(jié)省空間，只需小的潔凈室空間。雙頻(13.56 MHz + 400 kHz)PECVD，用于過程控制。
采購中心
化工儀器網(wǎng)