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PD-3800L 化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

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1. 產(chǎn)品概述

PD-3800L是一種能夠沉積硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)的鎖載等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)。該系統(tǒng)由于采用了大型反應(yīng)室,并通過載盤裝載多片晶圓進(jìn)行批量處理,因此產(chǎn)量較高。在直徑360mm的區(qū)域內(nèi)可以沉積出具有優(yōu)異的厚度均勻性和應(yīng)力控制的薄膜,具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和可重復(fù)性。用戶友好的觸摸屏界面用于參數(shù)控制和配方存儲(chǔ)。該系統(tǒng)是大規(guī)模生產(chǎn)用薄膜沉積的理想選擇,具有優(yōu)異的重復(fù)性。

2. 設(shè)備用途/原理

SiH4-SiNx。SiH4-SiO2。液體驅(qū)體(SN-2)SiNx。TEOS-SiO2。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

大加工范圍:?360 mm (?3" x 9, ?4" x 6, ?6" x 3),優(yōu)異的均勻性和應(yīng)力控制,工藝穩(wěn)定性和可重復(fù)性,堅(jiān)固的系統(tǒng),低的運(yùn)行/維護(hù)成本,用戶友好的觸摸屏界面,用于參數(shù)控制和配方存儲(chǔ)。




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