1. 產(chǎn)品概述

RIE-300NR是一種理想的反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，適用于加工?300mm晶圓和多晶圓（?3"×12，?4"×8等），具有優(yōu)異的均勻性。該系統(tǒng)的設(shè)計(jì)旨在大限度地減少工廠空間需求，提高產(chǎn)量，大限度地延長(zhǎng)正常運(yùn)行時(shí)間，并通過(guò)可靠的硬件和便捷的服務(wù)降低擁有成本。

2. 設(shè)備用途/原理

去除夾層膜，用于?300mm的失效分析。蝕刻Si、SiO2、SiN和聚硅氧烷。樹(shù)脂的蝕刻和脫膠。光阻劑的灰化、剝離和除塵。表面改性（潤(rùn)濕性和粘附性的改善。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

大加工范圍：?350 mm (?3" x 12, ?4" x 8, ?12" x 1)。用戶友好的觸摸屏界面全自動(dòng) "一鍵式 "操作，可手動(dòng)操作。優(yōu)化的噴淋頭可提供工藝氣體的均勻性。減少停留時(shí)間的近距離耦合氣體輸送箱。對(duì)稱的疏散設(shè)計(jì)與TMP相結(jié)合，形成了有效的流動(dòng)。自動(dòng)壓力控制，可精確控制工藝壓力，不受氣體流量影響。干式泵和系統(tǒng)布局便于維護(hù)。