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μMLA 無掩模光刻機

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 深圳市矢量科學儀器有限公司
  • 品牌 STELLA/海德堡儀器
  • 型號 μMLA
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2024/9/5 14:34:47
  • 訪問次數(shù) 178

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述:

臺式 μMLA 系統(tǒng)是先進的無模板技術,建立在的 μPG 平臺之上,該平臺是全球高的臺式無模板系統(tǒng)。它是一款入門研發(fā)(R&D)工具,幾乎適用于任何需要微結(jié)構(gòu)的應用。典型的例子有微流控(細胞分選裝置、芯片實驗室)、小規(guī)模掩模寫入、微光學和微透鏡陣列、傳感器、MEMS、接觸式二維材料和扇出電等。

μMLA是一種靈活且可定制的工具,并提供兩種曝光模式。標準μMLA使用光柵掃描曝光模式進行曝光,該模式速度快,可提供出色的圖像質(zhì)量和保真度,而寫入時間與圖案密度的結(jié)構(gòu)大小無關??蛇x的矢量掃描模式旨在以更快、更準確的方式對連續(xù)平滑的曲線(如波導)進行圖案化。三種光學設置提供了可變分辨率和吞吐量的選擇。每種配置都允許在不同的分辨率和速度配置之間輕松切換,以優(yōu)化給定應用的曝光。拉伸模式可以對現(xiàn)有結(jié)構(gòu)進行直接的臨時修改,并可以與納米線或 2D 材料進行電接觸。灰度曝光模式允許創(chuàng)建復雜的 2.5 結(jié)構(gòu),例如微光學設備。μMLA占地面積小,可放在普通桌子上。




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