TSC-100/300S/200L CMP后清洗機(jī)
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 特思迪
- 型號(hào) TSC-100/300S/200L
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/9/6 11:15:58
- 訪問次數(shù) 262
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該系列設(shè)備是晶圓CMP后的用清洗設(shè)備,有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線式等不同結(jié)構(gòu),以適用不同應(yīng)用場(chǎng)景,其中連線式設(shè)備加配全自動(dòng)上下片系統(tǒng)。該系列設(shè)備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能,集成度高,占地面積小,濕進(jìn)干出,適用于各類CMP后晶圓的清洗。
功能齊全
系列設(shè)備均配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能
操作簡(jiǎn)便
PLC系統(tǒng),觸摸屏控制,一鍵式自動(dòng)完成刷洗清洗加工,其中連線式設(shè)備配有全自動(dòng)上下片系統(tǒng),cassette to cassette使用更加方便
兼容性好
通過更換夾具,可兼容4-12英寸晶圓
占地面積小
盡量減少潔凈間的占地面積
產(chǎn)品參數(shù)