PlasmaPro 800 RIE 反應性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
- 公司名稱 深圳市矢量科學儀器有限公司
- 品牌 OXFORD/英國牛津
- 型號 PlasmaPro 800 RIE
- 產地
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2024/9/4 16:29:58
- 訪問次數(shù) 159
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1.產品概述:
asmaPro 800系列是結構緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng),該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻(RIE)工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺能夠處理量產別的批量以及300mm晶圓的工藝。
2.產品特點:
PlasmaPro 800系列是結構緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng),該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻(RIE)工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺能夠處理量產別的批量以及300mm晶圓的工藝。PlasmaPro 800系列是結構緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng),該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻(RIE)工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺能夠處理量產別的批量以及300mm晶圓的工藝。
3.產品工藝:
高性能工藝
準確的襯底溫度控制
準確的工藝控制
成熟的300mm單晶圓失效分析工藝
大型下電 - 低成本
刻蝕終點監(jiān)測 - 可靠性和可維護性俱佳
通過激光干涉儀與/或發(fā)射光譜進行終點監(jiān)測 - 增強刻蝕控制
可選擇帶有4-、8-或12-條氣路的氣柜 - 可提供靈活的工藝和工藝氣體,可以與主機分離,放置在遠端服務區(qū)
近距離耦合渦輪泵 - 提供優(yōu)秀的泵送速度加快氣體的流動速度
數(shù)據(jù)記錄 - 追溯腔室的歷史狀態(tài)以及工藝條件
液體冷卻和/或電加熱電 - 出色的電溫度控制和穩(wěn)定性