1.產(chǎn)品概述：

Beneq P800 門設計用于涂覆復雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將 P800 用于光學鍍膜、半導體設備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用 ALD 的各種應用。

2.產(chǎn)品配置:

大型零件需要大型原子層沉積工具。 Beneq P800 通常用于直徑大于 600mm 的批量零件。大批量生產(chǎn)能力還可以降低較小零件的成本，使原子層沉積在許多應用域中具有商業(yè)可行性。根據(jù)每個客戶的基材和應用選擇和設計佳的工具設置和 ALD 工藝。P800 的設計使得在反應室和底物支架的不同設置之間切換變得容易。這種內(nèi)置的多功能性意味著您可以使用相同的原子層沉積系統(tǒng)從研發(fā)順利過渡到批量生產(chǎn)。Beneq 提供量身定制的應用開發(fā)以及試生產(chǎn)支持，因此您可以在建立自己的 ALD 制造能力之進行測試。

用于厚膜堆疊 （> 1 μm） 的理想 ALD 工具。大批量的厚膜堆疊需要大量的驅(qū)體，并產(chǎn)生大量的殘留物和副產(chǎn)物。我們設計的 P800 配備了高容量驅(qū)體源以及驅(qū)體滅活和過濾系統(tǒng)，以應對這些挑戰(zhàn)。Beneq P800 是 35+ 年工業(yè)生產(chǎn)發(fā)展的結(jié)果，具有大批量 >1μm 厚膜堆棧。

3.產(chǎn)品優(yōu)勢：

維護更簡單、頻率更低。 沉積厚膜堆疊的原子層沉積工具通常需要每月清潔一次。P800 的高容量泵管路過濾器使該工具即使在大批量生產(chǎn)中也能運行數(shù)月而無需維護。此外，更換 ALD 反應室通常需要一整天的時間，因為您需要先讓它們冷卻下來。P800 設計允許用戶簡單地拉出反應室和其他需要清潔的部件，從而將時間縮短到幾分鐘。

避免因維護而造成不必要的停機時間。 Beneq P800 使用多個反應室，這些反應室在每次運行之間不斷更換，因此您可以大限度地減少與維護相關的生產(chǎn)停機時間。

Beneq 有的預熱器。 我們可選的預熱烤箱縮短了加熱時間，并進一步提高了您的吞吐量。