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Propel HVM GaN 金屬有機化學(xué)氣相沉積

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金屬有機化學(xué)氣相沉積MOCVD

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1.產(chǎn)品概述:

Veeco的Propel™HVMGaNMOCVD系統(tǒng)被設(shè)計為一種大批量制造單晶圓反應(yīng)器簇系統(tǒng),適用于基于GaN的功率、射頻和光子器件。采用單晶圓反應(yīng)器平臺,能夠在150和200毫米晶圓上產(chǎn)生高質(zhì)量外延膜性能,以實現(xiàn)均勻性、可重復(fù)性和良率。PropelHVM系統(tǒng)可配置多達6個模塊化集群室,以實現(xiàn)最大的生產(chǎn)力和靈活性,是客戶、鑄造廠或IDM業(yè)務(wù)的理想選擇。

2.產(chǎn)品優(yōu)勢

單晶圓反應(yīng)器基于VeecoTurboDisc®設(shè)計,采用突破性技術(shù),包括IsoFlange™和SymmHeat™,可在整個晶圓上提供層流和均勻的溫度分布??蛻艨梢暂p松地將工藝從Veeco的單晶圓反應(yīng)器Propel和K465i™系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到PropelHVMGaNMOCVD平臺,以實現(xiàn)快速開發(fā)到生產(chǎn)周期.

Veeco的Propel™HVMGaNMOCVD系統(tǒng)被設(shè)計為一種大批量制造單晶圓反應(yīng)器簇系統(tǒng),適用于基于GaN的功率、射頻和光子器件。采用單晶圓反應(yīng)器平臺,能夠在150和200毫米晶圓上產(chǎn)生高質(zhì)量外延膜性能,以實現(xiàn)均勻性、可重復(fù)性和良率。PropelHVM系統(tǒng)可配置多達6個模塊化集群室,以實現(xiàn)大的生產(chǎn)力和靈活性,是客戶、鑄造廠或IDM業(yè)務(wù)的理想選擇。

單晶圓反應(yīng)器基于VeecoTurboDisc®設(shè)計,采用突破性技術(shù),包括IsoFlange™和SymmHeat™,可在整個晶圓上提供層流和均勻的溫度分布??蛻艨梢暂p松地將工藝從Veeco的單晶圓反應(yīng)器Propel和K465i™系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到PropelHVMGaNMOCVD平臺,以實現(xiàn)快速開發(fā)到生產(chǎn)周期。





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