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KaRoll RTR1C 卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述:

KaRoll RTR1C 是一種先進(jìn)的卷對卷薄膜濺射系統(tǒng),主要用于在柔性基底材料上連續(xù)地進(jìn)行薄膜濺射沉積。它能夠?qū)⒏鞣N金屬、合金或化合物材料以精確的厚度和均勻性沉積在卷狀的基底上,如聚合物薄膜、金屬箔等。該系統(tǒng)通常由放卷裝置、收卷裝置、真空腔室、濺射源、鍍膜控制系統(tǒng)等部分組成。在真空環(huán)境下,通過濺射源產(chǎn)生的高能粒子撞擊靶材,使靶材原子濺射出來并沉積在移動的基底上,從而形成連續(xù)的薄膜。

 

2. 設(shè)備應(yīng)用

· 電子領(lǐng)域:可用于制造柔性電子器件,如柔性顯示屏的電極、電路等。例如在可折疊手機的屏幕制造中,通過該系統(tǒng)濺射導(dǎo)電薄膜,實現(xiàn)屏幕的導(dǎo)電和信號傳輸功能。

· 太陽能領(lǐng)域:用于制備柔性太陽能電池的薄膜電極或光吸收層等。有助于提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率和柔韌性,使其更適用于不同的應(yīng)用場景,如便攜式太陽能充電設(shè)備、太陽能屋頂?shù)取?/span>

· 光學(xué)領(lǐng)域:可以生產(chǎn)光學(xué)薄膜,如增透膜、反射膜等,應(yīng)用于柔性光學(xué)元件、可穿戴光學(xué)設(shè)備等。比如在智能眼鏡的鏡片上鍍制特定的光學(xué)薄膜,改善其光學(xué)性能。

· 包裝領(lǐng)域:為一些特殊的包裝材料提供功能性的薄膜涂層,如阻隔膜、防靜電膜等,提升包裝材料的性能和附加值。例如在食品包裝中,使用該系統(tǒng)鍍制阻隔膜,提高包裝對氧氣、水分等的阻隔性能,延長食品的保質(zhì)期。

3. 設(shè)備特點

· 高精度鍍膜:具備精確的鍍膜控制技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜厚度的高精度控制,保證薄膜性能的一致性和穩(wěn)定性。例如,可將薄膜厚度的誤差控制在極小范圍內(nèi),滿足對薄膜厚度精度要求較高的應(yīng)用場景。

· 高生產(chǎn)效率:卷對卷的連續(xù)生產(chǎn)方式,大大提高了生產(chǎn)效率,能夠?qū)崿F(xiàn)大規(guī)模的快速鍍膜生產(chǎn)。與傳統(tǒng)的間歇式鍍膜方式相比,在相同時間內(nèi)可以處理更多的基底材料,降低生產(chǎn)成本。

· 良好的膜層均勻性:通過優(yōu)化的濺射源設(shè)計和先進(jìn)的鍍膜工藝,確保在整個基底寬度和長度方向上都能獲得均勻的薄膜沉積。這對于需要大面積均勻薄膜的應(yīng)用非常重要,如大面積的柔性顯示屏或太陽能電池板。

· 適用于多種材料:可以濺射多種不同的材料,包括常見的金屬(如銅、鋁、銀等)、合金以及一些化合物材料,滿足不同應(yīng)用對薄膜材料的需求。能夠根據(jù)客戶的具體要求,選擇合適的靶材進(jìn)行鍍膜,提供多樣化的薄膜性能。

· 靈活的工藝參數(shù)調(diào)節(jié):允許用戶根據(jù)不同的產(chǎn)品需求,靈活地調(diào)整鍍膜工藝參數(shù),如濺射功率、沉積速率、基底移動速度等。這使得設(shè)備能夠適應(yīng)不同類型的基底材料和薄膜應(yīng)用,為研發(fā)和生產(chǎn)提供了更大的靈活性。

· 可靠的真空系統(tǒng):擁有高性能的真空系統(tǒng),確保在鍍膜過程中維持穩(wěn)定的高真空環(huán)境,減少雜質(zhì)和氣體對薄膜質(zhì)量的影響??煽康恼婵障到y(tǒng)有助于提高薄膜的純度和質(zhì)量,降低薄膜中的缺陷密度。

 

4. 產(chǎn)品參數(shù)(部分為例

以下參數(shù)僅供參考,實際參數(shù)可能因定制化需求和設(shè)備型號而有所不同。

· 基底寬度:常見的基底寬度可能在 100 毫米到 1000 毫米之間,具體取決于設(shè)備型號和應(yīng)用需求。

· 最大卷徑:例如,最大卷徑可能達(dá)到 500 毫米或更大,以適應(yīng)不同規(guī)模的卷狀基底材料。

· 濺射源數(shù)量和類型:可能配備多個濺射源,如直流濺射源、射頻濺射源等,數(shù)量可能為 2 - 8 個不等,具體根據(jù)鍍膜工藝和產(chǎn)能要求確定。

· 鍍膜速度:鍍膜速度根據(jù)不同的材料和工藝要求有所變化,一般在每分鐘幾米到幾十米的范圍內(nèi)。

· 真空度:能夠達(dá)到較高的真空度,如 10^-3 帕或更高,以保證濺射過程的順利進(jìn)行和薄膜質(zhì)量。

· 設(shè)備尺寸:設(shè)備的外形尺寸根據(jù)其設(shè)計和產(chǎn)能有所不同,例如長度可能在 3 - 10 米,寬度在 1.5 - 3 米,高度在 2 - 3 米。

· 電源要求:通常需要三相交流電,電壓如 380V,頻率 50Hz,整機額定功率根據(jù)設(shè)備配置而定,可能在 20 - 100kW 之間。

 




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