化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>工藝測量和檢測設(shè)備>晶圓缺陷光學(xué)檢測設(shè)備> KLA Candela® 8520表面缺陷檢測系統(tǒng)
KLA Candela® 8520表面缺陷檢測系統(tǒng)
| 參考價 | ￥50000-￥999999/臺 |
- 公司名稱 德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司
- 品牌KLA-Tencor
- 型號
- 所在地香港特別行政區(qū)
- 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
- 更新時間2025/3/9 22:36:48
- 訪問次數(shù) 6
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KLA Candela® 8520表面缺陷檢測系統(tǒng)采用專有的光學(xué)技術(shù)，可同時測量兩個入射角的散射強(qiáng)度。 它可以捕捉到形貌變化、表面反射率、相位變化和光致發(fā)光，從而對各種關(guān)鍵缺陷進(jìn)行自動檢測與分類。KLA Candela® 8520表面缺陷檢測系統(tǒng)為氮化鎵晶圓提供表面和光致發(fā)光的缺陷檢測，對氮化鎵位錯、凹坑和孔洞進(jìn)行檢測和分類，用于氮化鎵反應(yīng)器的缺陷控制。其功率應(yīng)用包括基于碳化硅的透明晶圓檢查和晶體缺陷分類，如基面位錯、微管、堆疊層錯缺陷、條形堆疊層錯缺陷、晶界和位錯，以及對三角形、胡蘿卜形、滴落物和劃痕等形貌缺陷進(jìn)行檢測。
功能
檢測寬帶隙材料上的缺陷，包括直徑達(dá)200毫米的碳化硅和氮化鎵（襯底和外延)
支持各種晶圓厚度
對微粒、劃痕、裂紋、沾污、凹坑、凸起、KOH蝕刻、胡蘿卜形與表面三角形缺陷、基平面位錯、堆疊層錯、晶界、位錯和其他宏觀外延干擾進(jìn)行檢測
應(yīng)用案例
襯底質(zhì)量控制
襯底供應(yīng)商對比
入廠晶圓質(zhì)量控制(IQC)
出廠晶圓質(zhì)量控制(OQC)
CMP（化學(xué)機(jī)械拋光工藝）/拋光工藝控制
晶圓清洗工藝控制
外延工藝控制
襯底與外延缺陷關(guān)聯(lián)
外延反應(yīng)器供應(yīng)商的對比
工藝機(jī)臺監(jiān)控
行業(yè)
工藝設(shè)備監(jiān)控
其他化合物半導(dǎo)體器件
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