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NLD-3000原子層沉積系統(tǒng)
NLD-3000原子層沉積系統(tǒng)：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/6/17 17:06:13 對(duì)比

NLD-3000原子層沉積系統(tǒng)
薄膜反射儀
薄膜反射儀是一款相對(duì)較低成本和操作簡(jiǎn)單的工具?；陉嚵械奶綔y(cè)器系統(tǒng)保證快速測(cè)量，可升級(jí)到MSP（顯微分光光度計(jì)）系統(tǒng)，SRM映射系統(tǒng)，多通道系統(tǒng)，大點(diǎn)的...

型號(hào)： SR系列所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:55:47 對(duì)比

薄膜反射儀薄膜測(cè)試測(cè)試薄膜厚度薄膜反射測(cè)試薄膜厚度
光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x
光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x可根據(jù)客戶的需求，針對(duì)不同的工作測(cè)試環(huán)境，提供相應(yīng)的解決方案，如有技術(shù)請(qǐng)咨詢德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)

型號(hào)： N系列所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:55:07 對(duì)比

接觸角測(cè)量?jī)xcontact angle表面張力接觸角測(cè)試
Harrick Plasma 等離子清洗機(jī)真空泵
Harrick Plasma 等離子清洗機(jī)真空泵具有悠久歷史的專業(yè)光學(xué)光譜儀器的設(shè)計(jì)和制造。自1969開始，Harrick Plasma ，行業(yè)享有盛名。該公司...

型號(hào)： PDC-VP 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:54:31 對(duì)比

真空泵Harrick Plasma等離子真空泵等離子清洗機(jī)
高功率等離子清洗機(jī)
高功率等離子清洗機(jī)除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對(duì)...

型號(hào)： PDC-002-H... 所在地：國(guó)外參考價(jià)： ￥7300更新時(shí)間：2024/6/17 16:54:08 對(duì)比

HarrickPlasma等離子清洗機(jī)PDC-002-HP高功率擴(kuò)展型
Harrick基本型等離子清洗機(jī)
基本型等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機(jī)外接一臺(tái)真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清...

型號(hào)： PDC-32G-2 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:53:48 對(duì)比

HarrickPlasma等離子清洗機(jī)PDC-32G-2PDC-32G
PECVD沉積
PECVD沉積可選配一個(gè)三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而控制薄膜應(yīng)力。

型號(hào)： Minilock-... 所在地：香港特別行政區(qū)參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:46:47 對(duì)比

薄膜沉積PECVD沉積
等離子刻蝕ICP
等離子刻蝕ICP基片通過預(yù)真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而隔絕外部濕氣，防...

型號(hào)： Minilock-... 所在地：香港特別行政區(qū)參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:46:07 對(duì)比

等離子蝕刻等離子蝕刻系統(tǒng)
IPA干燥多功能一體清洗系統(tǒng)
液相擴(kuò)散技術(shù)（LDT）提供了各種基材和表面材料的干燥性能性能增強(qiáng)。這種專有的干燥工藝及其它的系統(tǒng)控制生成超純IPA氣霧劑層，在靜止的基板移動(dòng)擴(kuò)散去除水分，不留...

型號(hào)： Megasonic... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:41:57 對(duì)比

兆聲清洗MegasonicIPAIPA dryer多功能清洗系統(tǒng)
等離子清洗機(jī)
PDC-002等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機(jī)外接一臺(tái)真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔...

型號(hào)： PDC-32G 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:41:20 對(duì)比

PDC-002等離子清洗機(jī)實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī)臺(tái)式等離子清洗機(jī)研究型等離子清洗機(jī)小批量等離子清洗機(jī)
刻蝕顯影清洗系統(tǒng)
刻蝕顯影清洗系統(tǒng)是一套脫機(jī)系統(tǒng)，在一個(gè)封閉的清洗室內(nèi)清洗網(wǎng)紋輥，并由計(jì)算機(jī)控制。該系統(tǒng)包含一個(gè)回收裝置，去除廢料，清洗介質(zhì)的表面，并允許塑料介質(zhì)可以重復(fù)多次使用...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:39:02 對(duì)比

刻蝕顯影清洗系統(tǒng)清洗系統(tǒng)顯影清洗系統(tǒng)刻蝕顯影清洗系統(tǒng)應(yīng)用刻蝕顯影清洗系統(tǒng)特點(diǎn)
PlasmaFlo氣體流量混合器
氣體流量混合器可用于任何與等離子清洗機(jī)模型結(jié)合，有利于氣體混合，氣體的流量和真空壓力監(jiān)測(cè)更精確的定量控制。

型號(hào)： PDC- FMG 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:38:06 對(duì)比

PlasmaPlo氣體混合器HarrickPlasma等離子清洗機(jī)
Harrick高功率擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)
Harrick高功率擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)是一款多功能的工具，適用于刻蝕有機(jī)薄膜（10--100nm）以及表面活化改性。

型號(hào)： PDC-002-H... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/6/17 16:36:31 對(duì)比

HarrickPlasma等離子清洗機(jī)PDC-002-HP高功率擴(kuò)展型
原子層沉積系統(tǒng)
AT-400原子層沉積系統(tǒng)高縱橫比沉積，具有良好的共形性;曝光控制，用于在 3D 結(jié)構(gòu)上實(shí)現(xiàn)所需的共形性；預(yù)置有經(jīng)驗(yàn)證過的 3D 和 2D 沉積的優(yōu)化配方；簡(jiǎn)單...

型號(hào)： AT-410 所在地：國(guó)外參考價(jià)： ￥450000更新時(shí)間：2024/6/17 16:34:26 對(duì)比

原子層沉積系統(tǒng)桌面型原子層沉積臺(tái)式原子層沉積AT-400原子層沉積
便攜式紫外光功率計(jì)
Model 308 便攜式光功率計(jì) ●精確性 ●可靠性 ●可重復(fù)性 ●數(shù)顯直讀 ●便捷性

型號(hào)： Model 308... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/2/23 14:56:01 對(duì)比

紫外光功率計(jì)UV meter
光刻曝光分析儀
45年來，OAI始終是紫外能量測(cè)試儀器領(lǐng)域的*應(yīng)用商，其儀器用于半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)、晶圓封裝和晶圓植球行業(yè)中光刻工藝的可靠，精確校準(zhǔn)控制。Model 659是一...

型號(hào)： Model 659 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/2/23 13:53:48 對(duì)比

光刻曝光曝光分析儀
薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)
在硅片等基板上附膜時(shí)，由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異，產(chǎn)生應(yīng)力，進(jìn)而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲，而薄膜應(yīng)力測(cè)量裝置FLX系列可從這...

型號(hào)： Toho FLX-... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2023/6/6 13:05:03 對(duì)比

薄膜測(cè)試薄膜應(yīng)力日本薄膜應(yīng)力薄膜應(yīng)力測(cè)試薄膜應(yīng)力測(cè)試系統(tǒng)
ActiGraph三軸加速體動(dòng)記錄儀
ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過60個(gè)國(guó)家的幾百所大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)所采用，主要的實(shí)驗(yàn)室包括U.S. National Inst...

型號(hào)： GT9X Link 所在地：香港特別行政區(qū)參考價(jià)： ￥4000更新時(shí)間：2021/4/12 13:33:35 對(duì)比

人群活動(dòng)調(diào)查監(jiān)測(cè)睡眠研究監(jiān)測(cè)關(guān)聯(lián)性研究監(jiān)測(cè)運(yùn)動(dòng)研究監(jiān)測(cè)
ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀
ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過60個(gè)國(guó)家的幾百所大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)所采用，主要的實(shí)驗(yàn)室包括U.S. National Inst...

型號(hào)： wGT3X-BT 所在地：香港特別行政區(qū)參考價(jià)： ￥3000更新時(shí)間：2021/4/12 13:19:08 對(duì)比

人群活動(dòng)調(diào)查監(jiān)測(cè)睡眠研究監(jiān)測(cè)關(guān)聯(lián)性研究監(jiān)測(cè)運(yùn)動(dòng)研究監(jiān)測(cè)
快速退火爐
AS-One系統(tǒng)有兩種型號(hào)： AS-One 100 系統(tǒng)或AS-One 150 系統(tǒng)該快速退火爐是專門為滿足大學(xué)、研究實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)的需求而研制的，高可靠且...

型號(hào)： AS-One sy... 所在地：香港特別行政區(qū)參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2019/3/5 10:36:59 對(duì)比

快速退火爐退火爐

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