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光學接觸角測量儀可根據(jù)客戶的需求,針對不同的工作測試環(huán)境,提供相應(yīng)的解決方案,如有技術(shù)請咨詢德國韋氏納米系統(tǒng)
等離子刻蝕ICP基片通過預(yù)真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸,從而提高了用戶安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下,從而隔絕外部濕氣,防...
液相擴散技術(shù)(LDT)提供了各種 基材和表面材料的干燥性能性能增強。這種專有的干燥工藝及其它的系統(tǒng)控制生成超純IPA氣霧劑層,在靜止的基板移動擴散去除水分,不留...
AT-400原子層沉積系統(tǒng)高縱橫比沉積,具有良好的共形性;曝光控制,用于在 3D 結(jié)構(gòu)上實現(xiàn)所需的共形性;預(yù)置有經(jīng)驗證過的 3D 和 2D 沉積的優(yōu)化配方;簡單...
在硅片等基板上附膜時,由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異,產(chǎn)生應(yīng)力,進而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲,而薄膜應(yīng)力測量裝置FLX系列可從這...
ActiGraph人體運動能耗監(jiān)測儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過60個國家的幾百所大學和研究機構(gòu)所采用,主要的實驗室包括U.S. National Inst...
ActiGraph人體運動能耗監(jiān)測儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過60個國家的幾百所大學和研究機構(gòu)所采用,主要的實驗室包括U.S. National Inst...
PIE 代表 Plasma ,Ion ,ElectronPIE 專業(yè)致力于等離子刻蝕,清洗,表面處理和離子,電子束產(chǎn)品的應(yīng)用。PIE INC 成立于等離子研究小...
杜邦蝕刻殘留物去除液
杜邦™plasmasolv®ekc265™蝕刻后殘留物去除
法國JFP是*的手動、半自動引線鍵合機的制造商,其產(chǎn)品特別適合于從實驗研究到小規(guī)模試產(chǎn)的電子封裝的需要。全新設(shè)計的WB-200型半自動細絲鍵合機非常適合實驗室研...
聲表面波SAW功率發(fā)生器Fxilie簡化和加速聲流控實驗的一款高精度,頻率的控制器。
PIE 代表 Plasma ,Ion ,ElectronPIE 專業(yè)致力于等離子刻蝕,清洗,表面處理和離子,電子束產(chǎn)品的應(yīng)用。PIE INC 成立于等離子研究小...
ECOPIA公司的HMS系列霍爾效應(yīng)測量系統(tǒng)主要由恒電流源、范德堡法則終端轉(zhuǎn)換器、低溫(77K)測量系統(tǒng)及磁場強度輸入系統(tǒng)組成,擁有研究半導體材料霍爾效應(yīng)所有的...
霍爾效應(yīng)測試儀主要用于測量半導體材料的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)、導電類型等重要參數(shù),而這些參數(shù)是了解半導體材料電學特性必須預(yù)先掌控的,因此霍爾效應(yīng)測...
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