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CVTD 材料氣相輸運(yùn)與沉積系統(tǒng)PX 1610
ACU20FDH-LH沉積設(shè)備用高溫分體氣體流量控制器及流量計PX 3288
PLUTO-MC真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備PX 2227
AL-1無針孔薄膜沉積設(shè)備PX 1800
FPPIC-R-200-standard科研型原子層沉積系統(tǒng),picosun公司ALD系統(tǒng)PX 4378
NEXUS IBD離子束沉積設(shè)備PX 1800
OCTOS™自動薄膜沉積簇工具PX 1800
ESC-101新型離子槍PX 1800
KaLine 8V部件鍍膜設(shè)備PX 1800
For Half Mirror Coating部件鍍膜設(shè)備PX 1800
HVD-1800 Series部件鍍膜設(shè)備PX 1800
SMART蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
Lumina AS/P金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1800
Roll to Roll Sputtering卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)PX 1800
Propel HVM GaN金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積PX 1800
KaRoll RTR1C卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)PX 1800
MEB-600/800熱阻/電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)設(shè)備PX 0
MSP-300/400/5100/6200磁控濺射鍍膜設(shè)備PX 0
FPANR-AT410ALD系統(tǒng),共形導(dǎo)電薄膜,原子層沉積PX 4378
FPANG-COVAPCOVAP物理氣相沉積系統(tǒng),PVD系統(tǒng)PX 4378
FPANG-AMOD物理氣相沉積平臺PVD,濺射,電子束蒸發(fā)PX 4378
FPTOR-IBD離子束沉積系統(tǒng),離子shu沉積濺射鍍膜PX 4378
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
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干法工藝設(shè)備
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組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)
部件鍍膜設(shè)備
自動薄膜沉積簇工具
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積
金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備
真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
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