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MAS4-BE光刻系統(tǒng)一體機主要由勻膠單元、烤膠單元、曝光單元、顯影
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桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機將溶液涂覆在硅片、FTO、ITO、石英、陶瓷等基片上
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應(yīng)用:在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上
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MSD-150D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自
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產(chǎn)品概述:應(yīng)用于3D封裝、LED、微機電系統(tǒng)、化合物半導(dǎo)體、功率器
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該設(shè)備用于8寸晶圓的涂膠、顯影、烘烤工藝;設(shè)備包括主要的工藝模
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MSC-200T-D桌上型半自動旋轉(zhuǎn)涂布機用于對均勻性和一致性要求較高的
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設(shè)備簡介:桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機,用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝
